NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC3000 用户手册说明书 NSC3000用户手册 ©版权所有：恩智（上海）测控技术有限公司 http://www.ngitech.cn 版本V1.0 2018-03-27 1
型号 NSC-4000,NSC-3500.NSC-3000,NSC-1000 磁控溅射系统:NSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。NSC-3000可支持最多4个靶的DC溅射或RF溅射NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,...
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