型号 NR7-1500PYNR9-1500PY 用于lift-off的负性光刻胶特性抗蚀剂显影过程中形成抗蚀剂底切厚度范围:0.7-25.0 µm容易调整抗蚀剂底切程度与曝光能量的关系对波长小于380nm的灵敏度对生产力的影响消除了对金属和电介质进行构图的干法蚀刻工艺消除了对双层抗蚀剂的需求应用领域无需RIE即可进行单层剥离工艺以对...