US6171914 * Jun 14, 1999 Jan 9, 2001 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Synchronized implant process to simplify NLDD/PLDD stage and N+/P+stage into one implantUS6171914 * 1999年6月14日 2001年1月9日 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Synchronized implant process to simplify NLDD/PLDD stage and N+/P+stage into one implant
网络割裂;漏极前延 网络释义 1. 割裂 a一aa 丝aaag 丝绒aaak 丝织aaan 丝绸aaar... ... nldb 害死 nldd 割裂 nldz 豁达 ... www.guandang.com|基于2个网页 2. 漏极前延 ...电路中的 N+注 入、和/或P+注入、和/或N 型漏极前延(NLDD)注入、和/或P 型漏极前延(PLDD) 注入掩膜版共用,...