圖中說明在相同數值孔徑下,運用第三代polano偏極控制技術,將可提升25%的聚焦景深,nikon認為以193奈米浸潤式掃描器(nsr-s609b數值孔徑1.07)搭配偏極控制,將和較貴之掃描器(數值孔徑1.2)有相同之效果。今年春季最新的polano系統,將應用在nikon 193 奈米乾式 s308f 0.92na 的步進與掃描系統,接下來nikon更將應用此系...
尼康Nikon 光刻机NSR-S308F,分辨率≤65nm,发布于2004年。
111345 Nikon NSR-S208D 248 nm Lithography System 300 mm 01.06.2011 2 as is where is immediately 114417 Nikon NSR-S308F DUV scanner 300 mm 1 inquire 108789 Nikon Optiphot 200 Wafer Inspection Microscope 200 mm 1 as is all rebuilt immediately 108790 NIKON Optiphot 88 Wafer Inspection Micros...
Reduction ratio1:5 Exposure field22 mm square to 17.9 (H) × 25.2 (V) mm Alignment accuracy (EGA, |M| + 3σ)≦ 70 nm Alignment systemLSA (standard), FIA (optional), LIA (optional) Metrology/Inspection Systems Automatic Macro Inspection System AMI-5600/3500/3000 MarkⅡ ...
System will be used for 65 nm or smaller devices Belmont, Calif., February 23, 2004 – Nikon Corporation introduced today the NSR-S308F, an advanced ArF scanner with the world’s highest NA projection lens of 0.92, targeted at mass production of 65 nm and smaller devices. The system combi...
尼康Nikon i-line光刻机NSR-SF130生产于2005年,NA为0.62,分辨率不大于280nm。 上一篇:尼康Nikon 二手光刻机NSR-S308F 下一篇:尼康Nikon翻新现货 ArF光刻机NSR-S307E 返回 其它产品 PVA TEPLA / TECHNICS GIGABATCH 360M刻蚀机二手现货供应2022-09-05 ...
圖中說明在相同數值孔徑下,運用第三代Polano偏極控制技術,將可提升25%的聚焦景深,Nikon認為以193奈米浸潤式掃描器(NSR-S609B數值孔徑1.07)搭配偏極控制,將和較貴之掃描器(數值孔徑1.2)有相同之效果。今年春季的Polano系統,將應用在Nikon 193 奈米乾式 S308F 0.92NA 的步進與掃描系統,接下來Nikon更將應用此系統...
自动更新 ArF NSR-S609B 的软件实用程序: 建议: 对于新用户,我们强烈建议下载驱动程序更新工具,如DriverDoc[DriverDoc - Solvusoft的产品] ,以帮助更新您的Nikon 扫描仪 驱动程序。 DriverDoc是一个自动下载和更新NSR-S609B 驱动程序的实用程序,可确保您为操作系统安装正确的驱动程序版本。