很容易被氧化为半径更小的和因此,nife-ldh层板的电荷密度比niv-ldh层板的电荷密度低,导致nife-ldh的层间距较大(0.769nm),niv-ldh的层间距较小(0.752nm)。 69.对采用不同fe和v的摩尔比a得到的产物进行xrd分析,所得xrd图如图1所示。图1(a)为a=0:1时对比例1的niv-ldh,图1(b)为a=0.3
将硫掺杂多孔 4 4 CN 113789536 A 说明书 3/4页 NiFe‑LDH纳米片电催化剂粉末从泡沫镍上刮下进行XRD分析,如图1所示,本实施例所制备 的疏掺杂多孔NiFe‑LDH纳米片电催化剂的衍射峰与标准NiFe‑LDH的PDF卡片(PDF#00‑051‑ 0463)一致,并且没有相关硫化物的峰,表明硫原子成功地掺杂到NiFe‑LDH晶格中...
对实施例1和对比例1-2的复合材料进行xrd分析,所得xrd图如图1所示,图1中谱线(a)为对比例1的复合材料、谱线(b)为对比例2的复合材料、谱线(c)为实施例1的复合材料,可以看出:谱线(a)中,只出现了2θ为44.5、51.8和76.4°的衍射峰,对应单质ni(标准衍射(pdf)卡片号为04-0850)的衍射峰,即存在泡沫镍,但是从谱线...
图2为本发明实施例1所述方法制备的氮掺杂碳量子点嵌入的NiFe-LDHs超薄纳米片组装体的X-射线粉末衍射(XRD)图谱。由图可以看出,主要的衍射峰都可以根据标准卡片(JCPDSno.26-1286)指认为NiFe-LDHs的衍射峰,各衍射峰与NiFe-LDH的标准谱图相对应。宽化的衍射峰是由NiFe-LDHs样品的尺寸纳米化引起的。但是难以确定明显...
ldh纳米片电催化剂的制备方法,包括如下步骤: 7.(1)将一定质量的ni(no3)2· 6h2o、fe(no3)3· 9h2o、co(nh2)2溶于一定量的去离子水中搅拌均匀,同泡沫镍一起放入水热反应釜中,随后将反应釜置于鼓风干燥箱中进行水热反应; 8.(2)将样品分别用去离子水和乙醇洗涤数次,40 ...
然后将混合溶液转入至100毫升反应釜中,加入步骤(2)中的mos2/ni3s2/nf,密封反应釜。保持恒温140℃,水热反应6小时。降至室温后,用乙醇和超纯水轮流轻超声两遍,60℃真空干燥,得到片层微米花状mos2/ni3s2/nife-ldh/nf。 图1为本实施例制备的mos2/ni3s2/nife-ldh/nf的x射线衍射(xrd)图谱。其衍射峰在21.7,...