NANO-MASTER那诺-马斯特的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。用于离子铣系统的样片夹具可以支持±90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。 NANO-MASTER那诺-马斯特技术已经展示了IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统...
NIE-4000 离子束刻蚀系统,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统,通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。 详细介绍 NIE-4000 离子束刻蚀系统 NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统 通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束...
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统:NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NANO-MASTER那诺-马斯特的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配...
NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀 咨询 那诺-马斯特/Nano-Master 型号: NIE-4000 (M) 参考成交价格: 80~100万元[人民币] NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀 咨询 那诺-马斯特/Nano-Master 型号: NIE-4000 (A) 参考成交价格: 80~100万元[人民币] NIE-4000 (R) RIBE反应离子束刻蚀 咨询 那诺-马斯特/Na...
NANO-MASTER 那诺-马斯特是美国的薄膜工艺专家,设备主要包含薄膜工艺沉积和刻蚀系统,可是包含干法和湿法,沉积系统包含溅射系统、热蒸镀、电子蒸发束、离子束溅射、PLD、ALD、PECVD、PA-MOCVD;刻蚀系统包含RIE、ICP、DRIE、IBE、等离子刻蚀,以及兆声清洗刻蚀系统;光学涂覆系统、空间器件测试系统等。 最新...
NANO-MASTER 那诺-马斯特是美国的薄膜工艺专家,设备主要包含薄膜工艺沉积和刻蚀系统,可是包含干法和湿法,沉积系统包含溅射系统、热蒸镀、电子蒸发束、离子束溅射、PLD、ALD、PECVD、PA-MOCVD;刻蚀系统包含RIE、ICP、DRIE、IBE、等离子刻蚀,以及兆声清洗刻蚀系统;光学涂覆系统、空间器件测试系统等。 最新...
NANO-MASTER那诺-马斯特的NRE-4000型独立式RIE反应离子刻蚀系统,带有淋浴头气流分布和水冷射频样品台。该RIE反应离子刻蚀系统带不锈钢立柜和一个13”圆柱形铝制腔体,一键式实现顶盖升降便于放片取片。系统最 大可支持8”(200毫米)晶圆,也可以支持更大基片刻蚀的定制。腔体包含两个端口,一个用于2”观察视窗,另一个预...
美国Nnao-master 离子束双刻蚀系统 NIE-4000 IBE/RIE ¥ 1.00 KEYENCE 基恩士 形状测量激光显微系统 VK-X3000 ¥ 1.00 日本电子JEOL 扫描电子显微镜 JSM-IT200 InTouchScope ¥ 1.00 EVG 620紫外纳米压印机 规格齐全 品质优良 售后完善 ¥ 1.00 PICOSUN高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD ...
在薄膜工艺系统领域,产品覆盖薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备等,典型的工艺系统涉及PVD物理气相沉积(磁控溅射、热蒸镀、电子束蒸镀)、CVD化学气相沉积(PECVD、ALD、PA-MOCVD)、干法刻蚀(RIE、ICP、DRIE、IBE、RIBE)、晶圆/掩模版清洗系统(单晶圆清洗、兆声清洗),应用领域涵盖了半导体、...
美国Nano-master NIE-4000 离子束刻蚀系统,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统 NANO-MASTER 拥有成熟的技术能力可以使基片温度保持在50°C 以下。通过倾斜和旋转,深沟可以切成斜角,通过控制侧壁轮廓和径向可提高均匀度。对于大尺寸的基片,我们配置线性离子源,通过扫描的方式,可以实现均匀的离子束刻蚀或反应离子束刻蚀。不同...