型号 NSC-4000,NSC-3500.NSC-3000,NSC-1000 磁控溅射系统:NSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。NSC-3000可支持最多4个靶的DC溅射或RF溅射NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,...
NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。 NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射 NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射 支付方式: 支付宝微信银行转账 ...
NSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展 NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。 NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射 NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射 特点: ** 优化的14”立方电抛光...
英文简称 NSC-3000 (M) 产地 美国 上市时间2012年 NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统 咨询 那诺-马斯特/Nano-Master 型号 NSC-3000 (A) 中文简称NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统 英文简称 NSC-3000 (A) 产地 美国 上市时间2012年 NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统 咨询 那诺-马斯特/Nano-Master 型号 ...
NIE-4000 离子束刻蚀系统,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统,通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。 详细介绍 NIE-4000 离子束刻蚀系统 NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统 通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束...
型号:NSC-4000 加工定制:是 供应商信息 张经理 地址: 中国 上海 徐汇区虹梅南路126弄翡翠别墅23号,17317363700 公司主页://nanomaster.cn.makepolo.com 查看更多 那诺—马斯特中国有限公司 进入公司首页 NANO-MASTER 那诺-马斯特是美国的薄膜工艺专家,设备主要包含薄膜工艺沉积和刻蚀系统,可是包含干法和湿法,沉积系统...
NANO-MASTER那诺-马斯特的RIE反应离子刻蚀系统的型号包含NRE-3000台式RIE反应离子刻蚀系统,最多支持四路工艺气体,NRE-3500紧凑型独立式RIE反应离子刻蚀系统,可升级为ICP刻蚀系统,可支持6路气体。NRE-4000型独立式RIE反应离子刻蚀系统,具有更大的空间,可以支持自动上下片,最多到12路气体的扩展等众多能力选项。