型号 MPS-150 品牌 美国ULTECH 光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,紫外曝光机等;美国公司为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量...
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型号:MPS150/80 尺寸:1700*1380*1410 mm/1600*1150*1250 mm 工作方式: 功率: 发热功率: 重量:650KG/500KG : 涡流研磨机MPA-150 : 涡流研磨机MPB-40 详细信息 规格参数 包装 本系列的涡流式研磨机需人工出料,机身倾斜设计,可以轻易人工倒料振动筛自动分选,经济实用。
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MPS150可确保光纤可以精确对准,从而在不发生物理接触的情况下将光耦合进出设备。 详情介绍 产品概述 入门手动探针台,用于表面耦合和水平边缘耦合 FormFactor推出了一种具有成本效益的硅光子学测量解决方案,以支持新兴应用的基础研究工作。该系统的设计是FormFactor多年开发自动光子测量系统的经验 - 现在根据大学和其他入门...