网络化学气相沉积;化学气相沉积系统;微波电浆化学气相沉积法(Microwave plasma enhanced chemical vapor deposition) 网络释义 1. 化学气相沉积 本研究以微波电浆辅助化学气相沉积(MPECVD)技术,於(001)矽晶上成长异质磊晶钻石膜,长晶过程采用了「三步法」,包含 …ir.lib.nthu.edu.tw|基于15个网页 2. 化学气相沉积...
来自韩国的微波等离子增强化学气相沉积系统,以期性能卓越操作方便得到美国、韩国、日本、香港和中国大陆多家科研机构的认可。 应用: 多壁CNT(碳纳米管)、垂直生长CNT、水平生长CNT、单壁CNT、 金刚石薄膜、纳米金刚石薄膜、类金刚石薄膜(DLC)、 SiC、其他超硬薄膜。 基本真空:2×10-3Torr (纳米尺度材料可选更高)...
1) Microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition(MPECVD) 微波电浆辅助化学气相沉积(MPECVD) 2) microwave plasma enhanced chemical vapor deposition 微波等离子体辅助化学气相沉积 3) Electron assisted chemical vapor deposition 电子辅助化学气相沉积 例句>> 4) MA-CBD 微波辅助化学浴沉积 1. A ra...
Figures 2(b)-2(e) show the evolution of surface morphology of the diamond films grown byMPECVDwith various working pressures. Fabrication of antireflection nanodiamond particle film by the spin coating deposition technique More results ►
型号: PECVD-1200M 产地: 上海 产品介绍 PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应;借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜;具有基本温度低、沉...
纳狮M系列PVD真空镀膜系统是甚于纳狮SPARK 平台设计,具有CVC (连续可变阴极技术)和 UFC (超精细阴极技术) 的电弧阴极关键技术的一款产品。SPARK 平台具有高度的灵活性,是业界非常可靠的生产输出之一。多种等离子体技术可以在一台设备上复合使用。基于APC电弧技术 SET刻蚀技术 较高镀率,可实现多层纳米复合结构涂层...
上海钜晶精密仪器制造有限公司供应PECVD-1200M-PECVD小型滑动开启式管式炉系统供应产品,PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应;借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成
M-PECVD 1. Investigation of high barrier film byM-PECVD; M-PECVD制备高阻隔薄膜研究 2) AN-M AN-M 1. Study on Artwork of Fmoc Solid-Phase Synthesis ofAN-M; 固相法合成多肽AN-M的工艺研究 3) keto-derivative(M-Ⅲ) M-Ⅲ 4) hydroxy-derivative(M-Ⅳ) ...
中美合资合肥科晶材料技术有限公司供应OTF-1200X-50-II-PE-M-带有预热系统的滑动PECVD-- OTF-1200X-50-II-PE-MSL供应产品,OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉,预热炉(作用为使固体原料蒸
Piezoelectric Polymers d31/d32 Coefficients Measurement (ESPY31) Electron Beam Profiler (diaBEAM) Hydrogen Storage Material Automatic PCT Measurement Systems (PCT) E-Beam Lithography (EBL) Ultrahigh Resolution EB Lithography Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (MPECVD) ...