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PCl3可用于半导体生产的外延、扩散工序.有关物质的部分性质如下: 熔点/℃ 沸点/℃ 密度/g•mL-1 其他 黄磷 44.1 280.5 1.82 2P(过量)+3Cl2 △ . 2PCl3;2P+5Cl2 △ . 2PCl5 PCl3 -112
PCl3可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分性质如下:熔点℃沸点/℃密度/g·mL-1其他2P()+3Cl2△2PCl;2P+5Cl2(=)-△2PClg黄磷44.1280.51.82PCl3-11275.51.574遇水生成HPO;和HC,遇O2生成POClPOC132105.31.675遇水生成H3PO4和HC,能溶于PCl (一)制备: 下图是实验室制备PCl3的装置(部分仪器已...
2.PCl3是磷的常见氯化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分性质如下:熔点沸点密度/项目其他(g·mL-1)2P+3Cl2(少量)黄磷44.1280.51.822PCl3;2P+5Cl2(过量)△2PC5遇水生成 H3PO3和PCl3-11275.51.574HCl,遇O2生成POCl3(一)制备如图是实验室制备PCl3的装置(部分仪器已省略)。C2↓甲碱石灰黄磷2...
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有关物质的部分性质如下:熔点/℃沸点/℃密度/g· mL-1其他2P(过量)+3Cl2-△2PCl3;黄磷44.1280.51.822P(少量)+5Cl。△2PCl。遇水生成H3PO3和HCl,PCl3-11275.51.574遇O2生成POCl3遇水生成H3PO4和HCl,POCl32105.31.675能溶于PCl3(一)制备:如图是实验室制备 PCl的装置Cl2甲碱石灰(部分仪器已省略)。(1)...
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PCl是磷的常见氯化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。 有关物质的部分性质如下:熔点 沸点密度/其他/℃ /℃g· mL '2P +3CL (少量)△1黄磷 44.1