日本MIKASA晶圆表面涂抹设备半导体用涂布机 MS-B200 / MS-B300产品采用AC伺服电机且无刷,因此在防止洁净室污染方面具有出色的性能,并且减少电机的发热以防止连续使用时的温度升高。膜厚再现性也较低。 详情介绍 日本MIKASA晶圆表面涂抹设备半导体用涂布机 MS-B200 / MS-B300 特点介绍 产品采用AC伺服电机且无刷,因此...
商品类型 转让租赁加工 、 机械五金加工 、 蚀刻加工 商品关键词 MIKASA米卡萨、 MS、 B200、 MS、 B150、 半导体晶圆涂抹、 匀胶机 商品图片 商品参数 品牌: MIKASA米卡萨 公差: 旋转涂布机 重量: 50KG 模具: 100*100基片 成型件: 涂膜机 后处理: 50*50基片 应用领域: 5*6*8 最...
日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150现货现货 旋转涂膜仪 滴液装置可选组件 吸盘 ●MS-B100/ MS-B150 ●MS-B200 ●MS-B300 ●MS-B200 (密闭型) ●MS-B300 (密闭型) 日本MIKASA光刻机 ●MA-10 ●MA-20 ●MA-60F ●M-2LF ●M-1S 日本MIKASA曝光,将光掩膜与晶园重合,复制电路图案。 日本MIKASA显...
日本MIKASA旋转涂布机MS-150 MIKASA 旋转涂布机 MS-A150/MS-B150 独家现货 代理MIKASA旋转涂布机SpinCoater MS-B200 日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150 独家现货 为半导体制造工序提供支持的Mikasa 备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后,提供一站式服务。另外,为旋转涂膜仪的所有...
商品关键词 MIKASA、 旋转涂布机、 MS、 B200、 密闭型 商品图片 商品参数 品牌: MIKASA 基板尺寸: 100×100 mm 尺寸: 570W×493H×630D 电源: 交流100~240V 5A 旋转数: 20~3,000转/分 商家信息 企业名称:塔玛萨崎电子(苏州)有限公司 注册资本:200万(元) 成立日期:2014-08-04 企业邮箱: 137...
操作方式 MS-B200 (密闭型) 除尘原理 密闭型 电镀位置 吸盘 动力模式 滴液装置可选组件 镀种 蚀刻装置 发动机缸数 MS-B300 (密闭型) 房内换气次数 旋转涂膜仪 混合方式 日本MIKASA光刻机 加工周期 MA-10 空气流量 将光掩膜与晶园重合 类型 复制电路图案 品牌 MIKASA米卡萨 价格说明 价格:...
日本MIKASA米卡萨旋转涂膜仪MS-B200刮涂机 技术支持 ¥ 10000.00 /台 MIKASA米卡萨,旋转涂膜仪,MS,B200 立即拨号 MIKASA米卡萨旋转涂布机蚀刻机曝光机光刻机MA-20 ¥ 100000.00 /台 MIKASA米卡萨,MA,20,涂布机 立即拨号 MIKASA米卡萨旋转涂布机刮涂机刷涂机涂膜机MS-100 ¥ 80000.00 /台 MS,100...
操作方式 MS-B200 (密闭型) 除尘原理 密闭型 电镀位置 吸盘 动力模式 滴液装置可选组件 镀种 蚀刻装置 发动机缸数 MS-B300 (密闭型) 房内换气次数 旋转涂膜仪 混合方式 日本MIKASA光刻机 加工周期 MA-10 空气流量 将光掩膜与晶园重合 类型 复制电路图案 品牌 MIKASA米卡萨 动力形式 ED-120...
●MS-B300 ●MS-B200 (密闭型) ●MS-B300 (密闭型) 日本MIKASA光刻机 MA-10 ●MA-20 ●MA-60F ●M-2LF ●M-1S 日本MIKASA曝光,将光掩膜与晶园重合,复制电路图案。 日本MIKASA显影、蚀刻装置DeveloperEtching 日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150现货现货旋转涂膜仪 ...
日本MIKASA晶圆表面涂抹设备半导体用涂布机 MS-B200 / MS-B300产品采用AC伺服电机且无刷,因此在防止洁净室污染方面具有出色的性能,并且减少电机的发热以防止连续使用时的温度升高。膜厚再现性也较低。 详细介绍 日本MIKASA晶圆表面涂抹设备半导体用涂布机 MS-B200 / MS-B300 特点介绍 产品采用AC伺服电机且无刷,因此在...