Tanner L-edit Mems Plus 具有先进的设计规则检查功能,可帮助您轻松查找设计缺陷并提高良率。您可以利用该工具的图形界面轻松设置规则,使其可针对任何工艺进行配置。这一点很重要,因为大多数 MEMS 工艺都具有很强的专业性或专有性。L-Edit MEMS Plus 凭借先进的验证错误导航器,可立即将您带到版图编辑器中的违规位...
5月20号,贝思科尔联合Siemens EDA举办《功率器件及MEMS器件开发 :高效率L-Edit版图及定制工艺设计》线上研讨会。 会议上,Siemens EDA的应用工程师宋琛为我们分享了Tanner版图工具在功率器件及MEMS器件版图设计中使用。通过比较不同应用领域的需求,结合实际的案例向大家介绍及演示Tanner工具在版图设计中的使用。针对功率器...
5月20号,贝思科尔联合Siemens EDA举办《功率器件及MEMS器件开发 :高效率L-Edit版图及定制工艺设计》线上研讨会。 会议上,Siemens EDA的应用工程师宋琛为我们分享了Tanner版图工具在功率器件及MEMS器件版图设计中使用。通过比较不同应用领域的需求,结合实际的案例向大家介绍及演示Tanner工具在版图设计中的使用。针对功率器...