日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm 日立高新磁控溅...
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm ...
高新磁控溅射器 MC1000, 高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够*大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的*大样品直径:60 mm高新磁控溅射
The MC1000 Ion Sputter Coater is a sample preparation instrument for use with a Scanning Electron Microscope (SEM). The MC1000 is designed to deposit a thin metal coating, such as platinum (Pt), gold (Au), platinum-palladium alloy (Pt-Pd) or gold-palladium alloy (Au-Pd), in order to...
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产品概述: The MC1000 Ion Sputter Coater is a sample preparation instrument for use with a Scanning Electron Microscope (SEM). The MC1000 is designed to deposit a thin met… 立即订购 详细介绍 The MC1000 Ion Sputter Coater is a sample preparation instrument for use with a Scanning Electron Mic...
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