爱企查为您提供皕赫科学仪器(上海)有限公司KLA - TENCOR SpectraShape Therma-Probe表面缺陷检测系统光学检等产品,您可以查看公司工商信息、主营业务、详细的商品参数、图片、价格等信息,并联系商家咨询底价。欲了解更多品牌、安装方式、包装规格、保修期、材料、电源电
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市场上该类设备主要供应商为 KLA(Spectra Shape 系列)、NanoMetrics、上海睿励(TFX 3000)和上海精测(EPROFILE 300FD) 套刻误差对准测量:在半导体制造过程中,关键层的光学套刻对准直接影响了器件的性能、成品率及可靠性,随着芯片集成度的增加,线宽逐渐缩小以及多重光刻工艺的应用,套刻误差需要更严格地被控制,因此套...
市场上该类设备主要供应商为 KLA(Spectra Shape 系列)、NanoMetrics、上 海睿励(TFX 3000)和上海精测(EPROFILE 300FD) 套刻误差对准测量:在半导体制造过程中,关键层的光学套刻对准直接影响了器件的性能、 成品率及可靠性,随着芯片集成度的增加,线宽逐渐缩小以及多重光刻工艺的应用,套刻误 差需要更严格地被控制,...
主要应用于圆片在光刻胶曝光显影后、刻蚀后和 CMP 工艺后的关键尺寸和形貌结构的测量。市场上该类设备主要供应商为 KLA(Spectra Shape 系列)、NanoMetrics、上海睿励(TFX 3000)和上海精测(EPROFILE 300FD) 套刻误差对准测量:在半导体制造过程中,关键层的光学套刻对准直接影响了器件的性能、成品率及可靠性,随着...
SpectraShape™ series 临界尺寸测量系统: SpectraFilm™ 厚度测量系统 KLA - TENCOR Aleris series 膜厚度测量仪 KLA - TEN: WaferSight™ series 几何特征测量系统 KLA - TENCOR Therma-Probe series 光学测量系统 KLA: EtchTemp series 温度测量系统 KLA - TENCOR SensArray series 温度测量系统 KLA -: Hig...
Archer 500LCM 和 SpectraFilm LD10 系统加入了 SpectraShape™ 9000 关键尺寸和器件形貌测量平台、K-T Analyzer® 先进数据分析系统,以及其他众多工艺控制系统,可支持 KLA-Tencor 的综合 5D 图型控制方案。为了保持高性能和高产能,满足最先进的集成电路生产需要,Archer 500LCM 和 SpectraFilm LD10 系统由 KLA-Te...
主要供应商:KLA(Spectra Shape系列)、NanoMetrics、上海睿励(TFX 3000)、上海精测(EPROFILE 300FD)。关键尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)主要供应商:Hitachi High-Tech、应用材料(VeritySEM5i)。 图22:光学关键尺寸测量技术 数据来源:KLA、国泰君安证券研究
Broadband Plasma 39xx/29xx Laser Scanning Puma™ Unpatterned Surfscan® High Productivity 8 Series All-Surface CIRCL™ e-beam eS805™ Reticle Teron™ SL65x Review eDR72xx™ Overlay ATL TM/Archer™ CD/Shape SpectraShape™ Films SpectraFilm™ Wafer Geometry WaferSight™ In-Situ Se...
KLA公司宣布推出Archer 750基于成像技术的套刻量测系统和SpectraShape 11k光学临界尺寸(“ CD”)量测系统,它们的主要应用是集成电路(“ IC”或“芯片”)制造。在构建芯片 2020-03-02 08:47:15 KLA荣登两大权威“最佳雇主”榜单 近日,《福布斯》与《金融时报》(FT)相继公布了2024年和2025年的“最佳雇主”榜单,...