由于CD-SEM需要将待测晶圆置于真空,因此检测速度较慢,目前基于衍射光学原理的非成像光学关键尺寸(OCD)测量设备已成为先进半导体制造了艺中的主要工具,它可以实现对器件关键线条宽度及其他形貌尺寸的精确测量,并具有很好的重复性和长期稳定性,通过OCD测量可以一次性获得诸多工艺尺寸参数,在以前这些参数通常需要使用多种设备...
光学关键尺寸（OCD）测量设备：由于 CD-SEM 需要将待测晶圆臵于真空，因此检测速度 较慢，目前基于衍射光学原理的非成像光学关键尺寸（OCD）测量设备已成为先进半导体制 造了艺中的主要工具，它可以实现对器件关键线条宽度及其他形貌尺寸的精确测量，并具有 很好的重复性和长期稳定性通过 OCD 测量可以一次性获得诸多工...
光学关键尺寸(OCD)测量设备:由于CD-SEM 需要将待测晶圆臵于真空,因此检测速度较慢,目前基于衍射光学原理的非成像光学关键尺寸(OCD)测量设备已成为先进半导体制造了艺中的主要工具,它可以实现对器件关键线条宽度及其他形貌尺寸的精确测量,并具有很好的重复性和长期稳定性通过 OCD 测量可以一次性获得诸多工艺尺寸参数,而...
Informs that KLA Instruments announced its metrology division's first new product since it acquired Metrologix in 1994. Discussion of the KLA 8100 CD SEM, a scanning electron microscope; The system's use of a Schottky f...
KLA CDSEM Credence Kalos KLA CD-SEM Services Our KLA 8xxx CD-SEM sales and service program is now in its 17th year !We offer equipment sales, refurbishment, spare parts and support services for KLA 8100, 8100E, 8100XP, 8250 and other configurations....
光学关键尺寸(OCD)测量设备:由于 CD-SEM 需要将待测晶圆臵于真空,因此检测速度 较慢,目前基于衍射光学原理的非成像光学关键尺寸(OCD)测量设备已成为先进半导体制 造了艺中的主要工具,它可以实现对器件关键线条宽度及其他形貌尺寸的精确测量,并具有 很好的重复性和长期稳定性通过 OCD 测量可以一次性获得诸多工艺尺寸参...
光学关键尺寸(OCD)测量设备:由于 CD-SEM 需要将待测晶圆臵于真空,因此检测速度较慢,目前基于衍射光学原理的非成像光学关键尺寸(OCD)测量设备已成为先进半导体制造了艺中的主要工具,它可以实现对器件关键线条宽度及其他形貌尺寸的精确测量,并具有很好的重复性和长期稳定性通过 OCD 测量可以一次性获得诸多工艺尺寸参数,而...
Calibre Optical&过程校正测试模式可从Mentor下载,用于KLA-Tencor的每个8100XP系列CD-SEM测量系统。模板和CD-SEM系统协同工作,直接测量掩模误差增强功能(MEEF),它表征了从光罩上印刷在硅上的误差的影响。 “当将Mentor模板与能力结合起来时在同一张CD SEM中快速测量光罩和印刷晶圆,工艺学习率呈指数级增长,“KLA-Tencor...
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Energy Filter Assembly is Fully Refurbished and Fully Tested directly on our KLA CDSEM systems. In Stock and Ready to Ship Warranty Included Related Equipment For Sale KLA-Tencor 8100 CD-SEM KLA-Tencor 8100XP CD-SEM KLA-Tencor 8100XPR CD-SEM ...