KDP晶体原料的合成是一个简单的酸碱中和反应过程。其反应方程式为:K2CO3+H2O=2KOH+CO2↑H3PO4+KOH→H2O+KH2PO4反应在水溶液中进行，由于KH2PO4在水溶液中存在三级电离，因而溶液中同时存在K+、H+、OH－、34PO、HP-24O、-42POH等离子，在不同pH的溶液中，34PO、HP-2O、-42POH和H3PO4基团...
Sol-Gel法制备KDP晶体SiO2基防潮减反膜[J]. 熊怀,李海元,唐永兴.稀有金属材料与工程. 2010(S2)熊怀,李海元,唐永兴.SolGel法制备KDP晶体SiO2基防潮减反膜[J].稀有金属材料与工程,2010,39(2):224-227.熊怀;李海元;唐永兴.Sol-Gel法制备KDP晶体SiO2基防潮减反膜.稀有金属材料与工程.2010.224-227熊怀,李海元...
?对kdp晶体旋转涂膜过程中的技术问题进行了探讨,包括元件夹持安全性、膜层均匀性、膜层透射比、膜层疏水性能、膜层激光损伤阈值等。分析了晶体元件加速旋转阶段的受力情况,明确了kdp晶体元件在旋涂操作过程中受力状态的安全性。对不同溶剂体系的膜层均匀性进行了判断,在400mm尺寸的元件上获得了透射比均匀性为0.3%...
(特别是KDP和DKDP晶体)被广泛地用于制作各种激光倍频器材料;近些年来,随着高功率激光系统在惯性约束核聚变(Inertial Confinement Fusion,简称ICF)等重大技术上的应用,高激光损伤阈值,特大尺寸的KDP和DKDP晶体的快速生长以及其性能的研究,在国际上又进入了一个新的阶段.基于此,我们先在优质(D)KDP晶体的快速生长和特性...
摘要: 磷酸二氢钾(KDP)晶体是为惯性约束聚变提供短波长的必不可少的谐波转换光学元件.大气中潮气会使水溶性生长的KDP晶体光学表面受潮发雾,降低光束的 透过率,破坏光束的质量.用玻璃树脂制备KDP晶体防潮保护膜可使之具有良好的光学性质和高的激光破坏阈值,这是目前各大实验室关心的技术.关键词:...
18.我国自行研制的优质磷酸二氢钾(KDP)晶体被应用于大功率固体激光器中.现以氯化钾和 磷酸为原料制取磷酸二氢钾.反应方程式为:H3PO4 KH2PO4.以下是在三正 丁胺中制备磷酸二氢钾的工艺流程: 已知:三正丁胺是不溶于水的有机溶剂.与氯化氢反应生成一种可溶于水的盐.能使
我国自行研制的优质磷酸二氢钾(KDP)晶体被应用于大功率固体激光器中.现以氯化钾和磷酸为原料制取磷酸二氢钾,反应方程式为:H3PO4(aq)+KCl(aq)?KH2PO4(aq)+HCl(aq),以下是在三正丁胺中制备磷酸二氢钾的工艺流程: 已知:三正丁胺是不溶于水的有机溶剂,与氯化氢反应生成一种可溶于水的盐,能使磷酸二氢钾在...
⒈ 氢氧化铜的制备于250ml烧杯中加入6.3g CuSO4·5H2O和20ml水,溶完后,边搅拌边加1:1的氨水,直至沉淀完全溶解。加入25ml 3mol/L NaOH 溶液,使Cu(OH)2完全沉淀,抽滤,以温水洗至无SO42–(用BaCl2检验),抽干。(先烧温水200ml,分15次加入。洗到10次以上时再检查。)...
本申请提供了一种KDP类晶体及其制备方法,属于晶体生长技术领域.本申请向KDP类晶体生长溶液中掺入10ppm～20ppm的Al3+,通过抑制KDP类晶体柱面的生长,在不影响晶体透过率的情况下,制备得到纵横比满足要求的KDP类晶体.本申请具有操作简便,成本低廉,生长工艺简单等优点,能极大提高KDP类晶体的利用率.胡子钰...