曝光实验 曝光实验是在基于JSM-35CFSEM的电子束光刻系统上进行的。曝光实验包括拼接实验、套刻实验和图案曝光。拼接和套刻精度是评价EBL设备性能的重要评价指标。 A.曝光拼接实验 如前所述,由于电子光学设计的限制,当蚀刻纳米结构图案时,EBL的单次曝光扫描场尺度会受到限制。因此为了实现大面积曝光,EBL系统必须要具备...
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JSM-35CF扫描电镜扫描部分电路分析及维修 扫描电镜的扫描发生器部分,由于使用电镜时需要根据不同的样品分析,经常调整水平扫描和垂直扫描锯齿波的频率,因而故障率较高.现根据日本电子公司《JSM- 35 CF SCANINGM... 肖少泉,张素新,卜庭江,... - 《电子显微学报》 被引量: 4发表: 0年 JSM-35CF扫描电镜字符电...
扫描电镜字符电路分析维修本文以该单位荧光屏字符显示故障为例,对该荧光屏字符显示电路作了电路分析,以期排除故障,恢复正常工作.肖少泉中国地质大学测试中心杨勇中国地质大学张素新中国地质大学测试中心金星中国地质大学测试中心中国物理学会第十二届全国电子显微学会议论文集...
故障维修电子公司故障分析我单位自1981年购进日本电子公司JSM-35CF扫描电子显微镜至今已工作了24年,现将最近几年在使用过程中出现的3例故障作一故障分析,并把解决方法总结如下.doi:CNKI:SUN:DZXV.0.2005-04-143肖少泉中国地质大学测试中心吴百一中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室电子显微学报...