曝光实验 曝光实验是在基于JSM-35CFSEM的电子束光刻系统上进行的。曝光实验包括拼接实验、套刻实验和图案曝光。拼接和套刻精度是评价EBL设备性能的重要评价指标。 A.曝光拼接实验 如前所述,由于电子光学设计的限制,当蚀刻纳米结构图案时,EBL的单次曝光扫描场尺度会受到限制。因此为了实现大面积曝光,EBL系统必须要具备...
故障维修电子公司故障分析我单位自1981年购进日本电子公司JSM-35CF扫描电子显微镜至今已工作了24年,现将最近几年在使用过程中出现的3例故障作一故障分析,并把解决方法总结如下.doi:CNKI:SUN:DZXV.0.2005-04-143肖少泉中国地质大学测试中心吴百一中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室电子显微学报...
表面形貌和横截面黄金治疗颗粒被拍到用扫描电子显微镜(JEOL JSM-35cf模型,日本)。 翻译结果2复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 正在翻译,请等待... 翻译结果3复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 表面形貌及治疗金丸的剖视图被拍到使用扫描电子显微镜日本日本电子光学模型包装机-35CF)。
JSM-35CF扫描电镜电路分析维修电子显微镜故障分析荧光屏字符显示我单位1981年引进的JSM-35CF扫描电镜,至今已连续工作20年了.荧光屏字符显示曾出现一个故障,现象是荧光屏下部的倍率字符如:X15000的个位零字符始终存在不能消除,换为10的低倍率时,则显示为X15 0,而面板上的数码管显示的放大倍率是正确的.doi:10.3969/...