Journal Of Vacuum Science & Technology A杂志是一本材料科学:膜-工程技术应用杂志。是一本国际优秀学术杂志,由AVS Science and Technology Society出版,该期刊创刊于1983年,出版周期为Bimonthly,始终保持着高质量和高水平的学术内容。在中科院分区表2023年12月升级版
Journal Of Vacuum Science & Technology A创刊于1983年,由AVS Science and Technology Society出版商出版,收稿方向涵盖材料科学:膜 - 工程技术全领域,此刊是中等级别的SCI期刊,所以过审相对来讲不是特别难,但是该刊专业认可度不错,仍然是一本值得选择的SCI期刊 。平均审稿速度 一般,3-6周 ,影响因子指数2.4,该期...
《Journal Of Vacuum Science & Technology A》(《真空科学与技术学报》)是一本由AVS Science and Technology Society出版的材料科学:膜-工程技术学术刊物,主要刊载材料科学:膜-工程技术相关领域研究成果与实践,旨在打造一种学术水平高、可读性强、具有全球影响力的学术期刊。本刊已入选SCIE来源期刊。该刊创刊于1983年...
Sci. Advances in Polymer Science Adv. Polym. Tech. Advances in Polymer Technology Adv. Powder Technol. Advanced Powder Technology Adv. Powder. Metall. Part. Mater. Advances in Powder Metallurgy and Particulate Materials Adv. Protein Chem. Advances in Protein Chemistry Adv. Quantum Chem. Advances i...
期刊简称J VAC SCI TECHNOL A 参考译名《真空科学与技术杂志A》 核心类别SCIE(2023版), 外文期刊, IF影响因子 自引率 主要研究方向材料科学-MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS材料科学:膜;PHYSICS, APPLIED物理:应用 Journal of Vacuum Science & Technology A《真空科学与技术杂志A》(双月刊). In 1983, the...
期刊主页 journal of vacuum science & technology a主页 期刊评价 您选择的journal of vacuum science & technology a的指数解析如下: 简介:J VAC SCI TECHNOL A 杂志属于工程技术行业,“材料科学:膜”子行业的中等级别杂志。投稿难度评价:影响因子偏低,但是接稿量比较大,容易发表 审稿速度:一般,3-6周级别/热度...
Journal of Vacuum Science & Technology A是一本由美国物理联合会出版社(AIP Publishing)出版的学术期刊,专注于研究真空科学和技术领域。该期刊每两月出版一期,每年发行6期,下面请看该期刊的具体内容介绍。 1、期刊简介 Journal of Vacuum Science & Technology A的ISSN号为0734-2101,期刊的主编是Eray Aydil教授。
Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological ...
Microplasma-assisted growth of colloidal Ag nanoparticles for point-of-use surface-enhanced Raman scattering applications Fang-Chia Chang; Carolyn Richmonds; R. Mohan Sankaran 2010 2010, vol.28, no.4 Correlation of structure and hardness of rf magnetron sputtered silicon carbonitride films A. S. Bh...
期刊名称:《Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films》 | 1997年第2期 6.Optical spectroscopic analyses of OH incorporation into SiO{sub}2 films deposited from O{sub}2/tetraethoxysilane plasmas 机译:O{sub}2/四乙氧基硅烷等离子体沉积的SiO{sub}2薄膜中OH掺入的光...