主要研究方向材料科学-CRYSTALLOGRAPHY 晶体学;CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY 化学综合 JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY《应用结晶学杂志》(双月刊). Articles published in Journal of Applied Crystallography focus on these methods and their&...[显示全部] ...
凝聚态物质研究、材料科学和生命科学的许多研究课题都利用晶体学方法,用中子、X射线和电子研究晶体和非晶体物质。发表在JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY上的文章集中在这些方法及其在识别结构和扩散控制的相变、结构-性能关系、缺陷、界面和表面的结构变化等方面的应用。 01 基本信息 期刊ISSN:0021-8898; 期刊主编:A...
编辑部地址:WILEY-BLACKWELL PUBLISHING, INC, COMMERCE PLACE, 350 MAIN ST, MALDEN, USA, MA, 02148 录用难度:较难 统计分析 影响因子:指该期刊近两年文献的平均被引用率,即该期刊前两年论文在评价当年每篇论文被引用的平均次数 Created with Highcharts 10.0.0年份JOURNAL OF APPLIEDCRYSTALLOGRAPHY近年影响因子...
《应用晶体学杂志》(Journal Of Applied Crystallography)是一本以CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY综合研究为特色的国际期刊。该刊由International Union of Crystallography出版商创刊于1968年,刊期Bimonthly。该刊已被国际重要权威数据库SCIE收录。期刊聚焦CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTAL...
《Journal Of Applied Crystallography》(《应用晶体学杂志》)是一本由International Union of Crystallography出版的CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY学术刊物,主要刊载CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY相关领域研究成果与实践,旨在打造一种学术水平高、可读性强、具有全球影响力的学术...
JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY SCI 应用晶体学杂志ISSN:0021-8898出版周期:Bimonthly是否OA:No创刊时间:1968年发文量:250出版地:DENMARK官网:http://journals.iucr.org/j/一般,3-8周审稿时间 较难平均录用比例 3.161影响因子 2024年SCI期刊影响因子出炉 获取相关优质资源 精准匹配期刊 月期刊平台服务过的文章...
期刊名称JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY J APPL CRYSTALLOGR 期刊ISSN0021-8898 期刊官方网站http://journals.iucr.org/j/ 是否OA否 出版商International Union of Crystallography 出版周期Bimonthly 文章处理费登录后查看 始发年份1968 年文章数188 影响因子5.2(2023)scijournal影响因子greensci影响因子 ...
crystallographyappliedjournal衍射晶体杂志 J.Appl.Cryst.(2000).33,1G.Kostorz AnewformatforJAC1editorialJournalofAppliedCrystallographyISSN0021-8898AnewformatandoverallappearanceforJournalofAppliedCrystallographyG.KostorzInstitutfuÈrAngewandtePhysik,ETHZurich,CH-8093Zurich,SwitzerlandWiththis®rstissueofVolume33,...
期刊名称:《Journal of Applied Crystallography》 | 2016年第3期 关键词: X-ray diffraction; asymmetric skew geometry; grazing incidence; quantum dots; 6.X-ray asterism and the structure of cracks from indentations in silicon 机译:X射线星光和硅压痕导致的裂纹结构 作者:Tanner B. K.;Garagorri...