内容提示: JGP- - 450a a 型 磁控溅射 沉积 系统 中国科学院沈阳科学仪器 研制中心有限公司 文档格式:DOC | 页数:5 | 浏览次数:232 | 上传日期:2019-07-17 22:06:43 | 文档星级: JGP- - 450a a 型 磁控溅射 沉积 系统 中国科学院沈阳科学仪器 研制中心有限公司 ...
JGP-450a型磁控溅射沉积系统 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一、系统的主要组成及技术指标 极限真空度:≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 系统从大气开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4 Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa; 系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、...
JGP-450A 型磁控溅射沉积系统计算机控制软件说明书 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 JGP磁控溅射系统 计算机控制软件 使用手册 - 1 -
JGP-450a型磁控溅射沉积系统 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一、系统的主要组成及技术指标 极限真空度:≤6.67x10-5Pa(经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系统从大气开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5Pa; ...
JGP-450A 型磁控溅射沉积系统计算机控制软件说明书.pdf,中国科学院沈阳科学仪器研制 心有限公司 JGP 控溅射系统 计算机控制软件 使用手册 - 1 - 中国科学院沈阳科学仪器研制 心有限公司 目录 1 软件说明 3 1.1 通讯线连接方法 3 2 界面介绍 4 2.1 挡板控制及状态 4 2.2 转盘
450a型磁控溅射沉积系统中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司一、系统的主要组成及技术指标极限真空度:≤-5Pa(经烘烤除气后);系统真空检漏漏率:≤-;系统从大气开始抽气,-4Pa;停泵关机12小时后真空度:≤5Pa;系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控...
我是新手,刚开始做实验,用的是“中科院沈阳科仪的JGP-450A型高真空磁控溅射系统”来镀膜,机器的气路系统有两路,流量控制为一路100sccm,一路200sccm。当我分别通入两种气体时发现有一路是有小数点显示,另一路却没有,这是怎么回事?我又要怎么控制两路气体的流量比呢? 返回小木虫查看更多分享...
35绪言绪言JGP-500-a型磁控溅 5、射沉积系统型磁控溅射沉积系统是高真空多功能磁控溅射镀膜设备。它可用于在高真空背景下,充入高纯氩气,采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜,而且又可以较好地溅射铁磁材料(Fe、Co、Ni) ,制备磁性薄膜。在镀膜工艺条件下,采用微机控制样品转盘和靶挡板,既可以制备单层...
系统标签: jgp磁控溅射沉积系统基片加热溅射 JGP-500a型磁控溅射沉积系统 用户手册/2008 前言: 首先感谢购买我们的设备,本着对您负责的精神,并为了确保给您提供最优质的售后服务,特别为您准备了本手册,请您耐心读取相关信息。 您的义务 请您在使用过程中,将发生故障的操作步骤填写在page30用户反馈问题清单.中,我们...
刚开始做实验，用的是“中科院沈阳科仪的JGP-450A型高真空磁控溅射系统”来镀膜，机器的气路系统有两路...