实际的测量中一般用两种方法:四探针法测方阻和铜棒测方阻 (1)采用四探针方法测量膜层的面电阻原理如图 2 所示。图中 1、2、3、4 表示四根探针;S 表示探针间距;I 表示 从探针 1 流入、从探针 4 流出的电流(单位:mA);V 表示探针 2、3 间的电位差(单位:mV)。 此时,膜层的面电阻 R□(式(2))为: ...
其中磁控溅射工艺具有沉积速率高均匀性好等优点而成为一种广泛应用的成膜方法。 1.ITO膜的制作方式及优缺点分析 薄膜的性质是由制作工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度接近室温,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。各种方法各有优缺点,常用的...
无论怎样调节薄膜沉积时的沉积温度、溅射电压和成膜条件等,都需要对其制备后的性能或输出功率进行高效检测。使用「美能光伏」生产的美能四探针电阻测试仪进行检测,可先测量调节前薄膜沉积后异质结太阳能电池的方阻和电阻率,得到精确数据后,再测量调节后其电池的方阻和电阻率,将两组数据或者多组数据进行比较,就可...
ITO薄膜的制备方法及工艺 可以用来制备ITO薄膜的成膜技术很多,如磁控溅射沉积 、真空蒸发沉积和溶胶- 凝胶( Sol -Gel)法等。 3.1 磁控溅射沉积 磁控溅射沉积可分为直流磁控溅射沉积和射频磁控溅射沉积。 直流磁控溅射是目前应用较广的镀膜方法,一般使用导电铟锡合金靶,溅射室抽真空后除了要通入惰性气体Ar ,还要通...
磁控溅射法为ITO导电薄膜主流制备方法,该法具有绿色环保、生产效率高、成膜均匀、沉积率高、操作便捷等...
4 直流磁控溅射法制备纳米ITO薄膜现在制备ITO薄膜的方法有很多,不同的方法原理不同,产物的形貌结构会有很大的差异,产量的也会相差很大。在如此众多的方法中,磁控溅射法比较适用于工业上的大规模生产,磁控溅射法的优点在于:成膜面积大,沉积速度快, 可适用于大规模生产;获得的ITO薄膜密度高,而且薄膜的纯度较高(在...
磁控溅射法、化学气相沉积(CVD)法、喷雾热分解法、溶胶-凝胶法是目前制备ITO薄膜常用的方法。水热法制备薄膜是近年来发展起来的一种很有潜力的液相制膜技术,具有成膜大面积化、成本低且易于产业化等优点,该法的应用将极大地推动国内制膜技术的发展。关键词:ITO薄膜;制备方法;应用中图分类号:TN304.055文献标识码:...
主要的物理方法包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子辅助沉积镀膜等。而化学制备方法主要包括气相沉积、喷涂热分解、溶胶凝胶等。磁控溅射法目前被公认为是最佳的透明导电膜制备方法,其成熟工艺已用于ITO薄膜的商业化生产。 为了制备出低电阻率和可见光范围内高透射率的ITO薄膜,通常采用两种途径:第一,采用高温制备方法...
● 厚度可较准确控制:真空蒸镀可以通过调节加热功率、时间、距离等参数来控制沉积速率和厚度,也可以通过「美能光伏」生产的美能探针式台阶仪来实时测量和反馈沉积后的ITO薄膜厚度等参数,从而将精准的数据反馈给电池厂商,助力其高效生产!●成膜速率快、效率高:真空蒸镀可以利用电阻、电子束、激光等方式加热材料,使...