1.一种icpms测试方法,其特征在于,包括: 对硅片进行刻蚀; 将刻蚀过的硅片固定在icpms扫描平台; 使vpd液滴在所述硅片表面滚动,收集所述硅片表面的金属成份,通过倾斜所述硅片利用所述vpd液滴的重力降低所述vpd液滴在所述硅片表面的残留; 将所述vpd液滴雾化后进行光谱分析,计算得到所述vpd液滴中的金属成份含量。
示例性的,将第一个vpd测试液滴滴在测试硅片的中心,使基座倾斜角度为α1,使第一个测试vpd液滴在测试硅片表面滚动,得到残留结果;将第二个vpd测试液滴滴在测试硅片的中心,使基座倾斜角度为α2,使第二个测试vpd液滴在测试硅片表面滚动,得到残留结果;……使第n个vpd测试液滴滴在测试硅片的中心,使基座倾斜角度为αn,...