高密度等离子体刻蚀系统(ICP 180) ICP-98C 中国科学院微电子研究所 技术参数: ICP 离子源:0-3000W; RF 射频源:0-600W;样品尺寸:四英寸向下兼容;基底刻蚀温度:0-200℃可调;可刻蚀材料包括:GaN,GaAs,InP,蓝宝石等 功能特色: 该仪器作为一种新型的干法刻蚀手段,结合了RIE(反应离子刻蚀)和IBE(离子束刻蚀)的...
高密度等离子体ICP-180刻蚀总结 Date31-May-13 Run4 Full4inch▓ BareSiO2 BarePatternPatternSiNxSiO2▓Si O2 C4F8Pressure41 RF(W)50 ICP(W)2000 Temp(℃)20 Time(min)1.5 He(Torr)10 HeFlow(sccm)4.6 (sccm)(sccm)(mTorr)31-May-13 5 ▓ ▓ 4 1 50 2000 20 10 10 5 ...
高密度等离子体ICP-180刻蚀总结Date 31-May-13 Run 4 Full 4 inch ▓ Bare SiO2 Bare Pattern Pattern SiNx SiO2 ▓ Si O2 C4F8 Pressure 4 1 RF (W) 50 ICP (W) 2000 Temp (℃) 20 Time (min) 1.5 He (Torr) 10 He Flow (sccm) 4.6 (sccm) (sccm) (mTorr) 31-May-13 5 ▓ ▓ 4 1...
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我的ICP-MS(热电的X系)在测氧化钛时被S污染了,现在进超纯水的信号值也有60-70万,已换过蠕动泵管,用10%硝酸浸泡炬管、雾化室、雾化器数天,清洗锥等措施都采用过,仍然无效。 1. 会不会离子透镜也给污染了? 2. 清洗一下离子提取器,如果没有效果就只好清洗四极杆了吧! 3. 不要急着清洗四极杆,因为四极杆...
高密度等离子体ICP-180刻蚀总结.doc 上传人:小辰GG1 2022/1/28 文件大小:1012 KB 下载得到文件列表 高密度等离子体ICP-180刻蚀总结.doc 相关文档 文档介绍 文档介绍:Date Run Full Bare Bare Pattern Pattern 02 C4F8 Pressure RF ICP Temp Time He He Flow4 inch SiO2 SiNx SiO2 Si (seem) (s84%33...
ICP-MS比较快的前处理方法,环境样品? 1. 采用微波炉消解。 2. 高压微波消解系统,MILLSTONE或CEM等等。 3. 微波消解或酸浸取.视样品和元素而定.如果作同位素丰度,用浸取就够了。 4. 看什么环境样品了,水样用酸固定就可以了,土壤是比较 ...
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1.不能,ICP-MS只能测总铬,但是,可以接LC,通过LC柱分离后测量六价铬;2.必需接液相才能做形态分析;3.分离六价铬有很多办法的,把ICP-MS作为检测器就可以了;单用ICP-MS也能测量饮用水的六价铬;只要测出总铬不超过六价铬的限量,就可以算合格了。三十九.谁能比较系统简练地给介绍一下ICP-MS是干什么的?都...
Packo离心泵ICP3/106/200/3702 C-180/E-20SKEW 26-2 S/N389401 320KG Q202m3/h H35M Packo是创新的工业离心泵制造商,Packo泵属于弗尔德组。生产基地的两家分别位于比利时,在泽德尔海姆和迪克斯梅德要具体。在泽德尔海姆分支生产牛奶冷却罐和组件食品,饮料,医药等行业。在迪克斯梅德分支生产工业泵和挤奶机器部...