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本次我们来谈谈刻蚀设备中的ICP刻蚀机。ICP刻蚀设备,全称为感应耦合等离子体刻蚀机(Inductively Coupled Plasma Etcher)。起源于20世纪初期,到20世纪90年代开始,感性耦合等离子体处理装置开始被发明使用。 IC…
5. 应用范围:环境、食品、制药、工业材料、半导体、原子能发电、地质和采矿、法医学、消费品以及考古等多个行业领域。 ICP-MS仪器主要部分 1. 样品引入系统 2. ICP中离子的形成 3. 等离子体/真空接口 4. 离子聚焦透镜 5. 碰撞/反应池 6. 质量分析器 7. 检测器 图2. ICP-MS从样品到质量分析的流程示意图...
ICP-RIE全称是电感耦合等离子体刻蚀机,是半导体芯片微纳加工过程中必不可少的设备,可加工微米级纳米级的微型图案。
icp监测设备 品牌 赛默飞Thermo 企晟 索菲萨 天瑞 名希 柯德曼Codman 英特格拉 更新时间:2024年11月12日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 实力供应商 已核验企业 安心购 查看详情 ￥1137.00/台 上海 URG-9000-40A 离子色谱特氟龙管 环境离子监测仪URG9000用ICP泵管 在线交易 上海希言科学仪器有限...
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以下是关于ICP设备中气体使用的要点- 氩气：是ICP中最常用的气体，纯度通常要求在99.99%以上，以确保等离子体的稳定性和分析的灵敏度。它不仅帮助形成稳定的等离子体，而且有助于保持较低的光谱背景，从而提高分析的准确性。- 辅助气体：在某些情况下，如样品的雾化过程中，可能会加入其他气体如氮气（Nitrogen, N...
电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)设备型号: 厂家:Thermofisher 型号:iCAP 7400 DUO 主要参数 1.波长范围:166-847nm; 2.光学分辨率:≤0.007nm在200nm处; 3.观察方式:矩管水平放置,双向观测; 4.RF发生器功率:750-1350W; 5.应用范围:环境、食品、制药、工业材料、半导体、原子能发电、地质和采矿、法医学、...