吉致电子在研发生产半导体CMP耗材（Pad/Slurry）方面加大研发投入和创新力度，凭借多年经验技术和可靠的产品质量，逐步获得国内外客户的认可。杜邦IC1000抛光垫的国产替代聚氨酯抛光垫在使用中能保持一致性与稳定性，在硬度、密度、空隙大小和弹性等参数经过精心设计和优化，能够适应不同的CMP工艺需求，为晶圆表面平坦化提供...
IC1000™ CMP pad The IC1000™ series of pads for chemical mechanical planarization (CMP) is the industry standard. DuPont’s IC1000™ pads are used in a wide variety of CMP applications today. While the IC1000™ formulation has remained constant, the quality and consistency of the ...
Our IC1000 CMP pad can achieve good performance balance of stability, reliability and polishing performance. IC1000 has been qualified for a lot of CMP processes that need the highest requirement in industry and still maintain high market share.Because our pads are designed with unique and special...
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2007年6月27日 在全球半导体行业化学机械研磨(CMP)技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布其IC1000研磨垫产品线又增添了两大生力军。这两款新品应用了先进的沟槽技术,可有效降低量产缺陷率和设备拥有成本。 IC1000 AT低缺陷率研磨垫(IC1000 AT Defect Reduction Pad) 采用已获专利的新...
pads since 1992;and since that time the product line has become an industry standard in the CMP process.Through engagement with customers,we have developed improved IC1000 series pads that offer performance enhancements in the areas of optical endpoint detection,pad grooving,subpads and pad ...
杜邦IC1000系列抛光垫能够存储和输送CMP抛光液至抛光区域,通过slurry的流动和分布使抛光工作持续均匀地进行。在化学机械抛光过程中,抛光液中的化学成分与晶圆表面材料产生化学反应,生成较易去除的物质,而dupont IC1000 Pad为这一化学反应提供了稳定的场所。同时,IC1000抛光垫能够去除抛光过程中产生的副产品,如氧化产物和...
化学品安全技术说明书ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP ASIA INC., TAIWAN BRANCH 按照GB/T 16483、GB/T 17519编制 产品名称:IC1000™ A2 PAD DD1 22" ACAJ;1Y00 SDS编号:10012587最初编制日期:22.02.2018发行日期:26.12.2022 打印日期:22.03.2023 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP ASIA ...
吉致硅晶圆抛光皮pad 碳化硅衬底抛光垫padcmp抛光材料定制粗抛垫 在线交易 吉致品牌 无锡吉致电子科技有限公司 3年 查看详情 ￥1000.00/台 上海 Corcos Srl Flexi Cup泡沫抛光垫手锉塑料法兰油漆混合桶过滤器车 皕赫国际贸易(上海)有限公司 1年 查看详情 ￥3.54/个 河北邢台 品唯供应羊毛毡磨头抛光垫打磨金属玉...
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