随着技术的演进，第二代i线型光刻机逐渐崭露头角。这类机器同样采用接触/接近式设计，但后期逐步发展为步进及扫描式光刻机，使用365nm的i-line紫外光源，对应5000-280nm的工艺范围，广泛应用于分立器件、MEMS、功率器件以及Mini/Micro LED、MOSFET、PD等领域的制造。第三代KrF型光刻机则引入
8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。
i-line光刻机采用的是i线光源,波长为365纳米。它通过以下几个步骤实现光刻的机制: 1. 掩膜对准:首先,在光刻胶上覆盖一层掩膜,掩膜上有芯片的电路图案。将掩膜放置在与光刻胶相接触的位置,并通过对准系统进行对准,确保掩膜上的图案与光刻胶的位置完全匹配。 2. 光刻胶涂覆:将光刻胶涂覆在硅片上,形成一层均...
i-line光刻技术的核心是利用i-line波长的紫外光(365nm)进行曝光,以实现图形的精确转移。其工艺流程主要包括光刻胶涂覆、软烘焙、曝光、显影和刻蚀等步骤。首先,通过旋涂技术将光刻胶均匀地涂覆在晶圆表面,随后进行软烘焙以去除溶剂并提高光刻胶的附着力。接着,使用i-line光源进行曝光,形成潜影...
第一二代光刻机均为接触接近式光刻机，曝光方式为接触接近式，G线（G-line）光刻机，使用的是436nm波长的光源。而I线（I-line）使用的是365nm波长的光源，这两种光刻机，也叫做紫外光刻机。而第三代升级为投影式光刻机，利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式升级为光学投影式光刻，以扫描的方式...
8月31日,尼康宣布推出新一代5倍缩小的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”,可用于制造功率、通信器件及MEMS器件等,并且完全兼容现有的尼康i-line曝光系统。 据官网资料,与现有的尼康i-line光刻机相比,NSR-2205iL1具有出色的性价比,无论何种晶圆材料,都可以优化各种半导体器件的生产。该设备预计将于2024年夏季上...
2. 高效率：通过优化光路设计和控制系统，iline光刻机实现了高速、稳定的光刻过程，提高了生产效率。3. 灵活性：iline光刻机支持多种光源和曝光方式，可根据不同的工艺需求进行灵活配置，满足多样化的生产需求。二、iline光刻机的应用领域iline光刻机在半导体制造领域具有广泛的应用，主要包括以下几个方面：1. ...
8月31日,尼康宣布推出新一代5倍缩小的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”,可用于制造功率、通信器件及MEMS器件等,并且完全兼容现有的尼康i-line曝光系统。 据官网资料,与现有的尼康i-line光刻机相比,NSR-2205iL1具有出色的性价比,无论何种晶圆材料,都可以优化各种半导体器件的生产。该设备预计将于2024年夏季上...
这个专利概述中不是说了嘛,紫外窄光谱,这个说的是激发光源是NUV谱400-300nm的汞灯光源,也就是i-line 对应365nm波长光源线。但是这个按国内的镜头只能做到200nm精度。 国内现在拿出成品销售的上海微电子SEEE,可做IC前道加工的600系列光刻机。i-line汞灯光源,只能加工200nm, ...
芯榜消息：日本佳能（7751）发布财务业绩简报。佳能下一财年用于功率半导体的i-line光刻机的预测显着增加。芯榜分析全球对功率半导体的资本投资可能会继续。从安全的角度来看，每个国家都在重复进行资本投资。产能将过剩，但对设备制造商来说将是顺风车。光刻机最核心的技术就是光源，光刻机按光源技术先进次序可分为 ...