I-Line光刻胶材料的研究进展
I-Line光刻胶材料的研究进展 郑金红 【摘要】酚醛树脂-重氮萘醌正型光刻胶由于其优异的光刻性能,在g-line(436nm)、i-line(365 nm)光刻中被广泛使用.g-line光刻胶胶、i-line光刻胶,两者虽然都是用线型酚醛树脂做成膜树脂,重氮萘醌型酯化物作感光剂,但当曝光波长从g-line发展到i-line时,为适应对应的曝光...
酚醛树脂-重氮萘醌正型光刻胶由于其优异的光刻性能,在g-line(436nm),i-line(365nm)光刻中被广泛使用.g-line光刻胶胶,i-line光刻胶,两者虽然都是用线型酚醛树脂做成膜树脂,重氮萘醌型酯化物作感光剂,但当曝光波长从g-line发展到i-line时,为适应对应的曝光波长以及对高分辨率的追求,酚醛树脂及感光剂的微观...
I-line光刻胶是一种用于光刻过程的光敏材料，它对i-line（波长365nm）的紫外光有反应。I线光刻胶适用于中等线宽尺寸的图案制作。具体的适用线宽范围会根据光刻胶的特性、曝光条件和制程要求而有所变化。一般而言，I线光刻胶可实现亚微米级别的线宽。I-line光刻胶的主要组成部分包括：光敏剂：这是光刻胶中最重...
集微网消息 9月17日，飞凯材料在接受机构调研时表示，公司i-line光刻胶以及Barc光刻胶配套材料目前正在下游相关晶圆厂做验证。验证结果需要结合相关进度而定。一般而言，验证通过后，即可进入小批量供货阶段。公司相关的产能建设将会视整体进度进行匹配。其称，半导体光刻胶是一个高投入、高技术的行业，而且国内高端...
近年来,国产光刻胶成绩斐然,i-line光刻胶国产化率超60%-70%,KrF光刻胶也达到了30%-40%。特别提一下,武汉太紫微光电的T150 A-光刻胶,不仅性能与国际大牌比肩,还实现了配方全自主设计,极限分辨率达到120nm,稳定性极佳!更令人振奋的是,华中科技大学团队在国内首次攻克了光刻胶的原材料和配方技术,打破了国外...
9月17日,飞凯材料在接受机构调研时表示,公司i-line光刻胶以及Barc光刻胶配套材料目前正在下游相关晶圆厂做验证。验证结果需要结合相关进度而定。一般而言,验证通过后,即可进入小批量供货阶段。公司相关的产能建设将会视整体进度进行匹配。 其称,半导体光刻胶是一个高投入、高技术的行业,而且国内高端产品主要还是国外企...
🔬揭秘I-line光刻胶的神秘配方🧪 I-line光刻胶,这种对i-line(波长365nm)紫外光敏感的材料,在微电子制造中扮演着至关重要的角色。它主要用于中等线宽尺寸的图案制作,其精确度可达亚微米级别。那么,这种神奇的光刻胶到底是由哪些成分构成的呢?让我们一探究竟!🌿 光敏剂:光刻胶的灵魂...
集微网消息 6月1日，飞凯材料在接受投资者提问时表示，公司TFT-LCD正性光刻胶目前处于试生产过程中，且近期出货量也在稳步提升。另外，公司i-line半导体光刻胶实验室阶段产品正在做客户送样验证前的准备工作。在投资方面，飞凯材料称，公司在投资参股中包括八亿时空、中芯聚源载兴等，不但没有出现投资风险，反而...
集微网消息 9月17日,飞凯材料在接受机构调研时表示,公司i-line光刻胶以及Barc光刻胶配套材料目前正在下游相关晶圆厂做验证。验证结果需要结合相关进度而定。一般而言,验证通过后,即可进入小批量供货阶段。公司相关的产能建设将会视整体进度进行匹配。 其称,半导体光刻胶是一个高投入、高技术的行业,而且国内高端产品...