HIPIMS电源工作原理:HIPIMS电源在传统磁控溅射电源基础上,通过特殊的电路设计和控制技术,能够产生高功率的脉冲电压。在脉冲的高功率阶段,大量的氩离子被加速轰击靶材,瞬间从靶材上溅射大量原子,极大提高溅射速率;在脉冲间歇期,等离子体中的带电粒子有时间进行扩散和复合,有利于维持等离子体的稳定性,同时也让基片有时间散...
HiPIMS电源可以产生高能量的离子束,从而使得涂层的成分更加均匀,从而提高了涂层的质量和稳定性。这种质量和稳定性可以使得涂层更加坚硬和耐磨,从而提高了涂层的使用寿命。 【结语】 高功率脉冲电源HiPIMS是一种先进的等离子体电源,具有离化率高、绕镀性...
hipims电源的原理 HIPIMS 电源即高功率脉冲磁控溅射电源,是一种用于磁控溅射镀膜过程的电源设备,其原理基于在传统磁控溅射电源基础上进行高功率脉冲化改进,具体如下: 传统磁控溅射原理基础:在传统磁控溅射系统中,阴极(靶材)和阳极(基片或真空室壁)置于真空环境中,并充入一定量的惰性气体(如氩气)。当在阴阳两极间施加...
HiPIMS电源的设计基础及研究进展HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一种物理 气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)技术,它通过高频脉冲放电在磁控溅射靶材表面产生强烈的等离子体,从而实现的材料沉积。HiPIMS技术的关键在于其电源设计,因为电源性能直接影响到等离子体密度、薄膜质量和沉积速率等重要参数。
HIPIMS(高功率脉冲磁控溅射)电源在一定条件下可以当作偏压电源使用,但也存在一些限制。 从原理上来说,HIPIMS电源能够提供高能量的脉冲。当将其作为偏压电源时,这些脉冲可以在一定程度上控制离子的轰击能量和方向。例如,在薄膜沉积过程中,通过调节HIPIMS电源输出的脉冲参数,可以使到达衬底表面的离子获得特定的能量,从而影响...
问：HiPIMS电源怎么调节参数？答：使用示波器测试电流波形 根据峰值电流大小，判断脉宽；设定好脉宽，再提高...
精新电源提供多种规格国内领先的HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源产品供用户选择。HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源被广泛应用于各类PVD工艺,用来制备高端金属装饰膜,功能膜和类金刚石(DLC)膜层等。相较于中频磁控溅射电源,HiPIMS有着离化率高,绕镀性好,膜层致密性好,成膜色
经过这些年的研究和相关的文献查询,提高HIPIMS工艺方法的沉积速率,需要从磁控靶阴极、外部磁场、与外部等离子体源复合、HiPIMS磁控电源自身以及溅射沉积工艺等几个方面想办法。 1)正负脉冲增强 在HiPIMS脉冲结束后,在工件上加一个正电压,可以提高靶电压和等离子体电位,有助于真空室内的等离子体飞向工件,增加沉积速率。有...
商业化量产对HIPIMS电源的要求 HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering),高功率脉冲磁控溅射电源是PVD领域最新的溅射技术。利用极高的脉冲功率密度(1~8MW)产生放电条件,既有阴极弧的高金属离化率和高致密膜层,又完全避免了大颗粒和滴液现象,同时又有良好附着力,耐磨,硬度等。
精新电源科技HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源JX-HiPIMS-Pro-20型号产品规格与参数详情,本电源峰值功率2MW,峰值电流1000A,峰值电压1000V,广泛适配各类装饰膜层和硬质膜层工艺。