HF酸刻蚀熔石英材料研究,HF酸刻蚀熔石英材料研究,熔融石英,石英的熔点,熔融石英砂,石英熔点,石英玻璃熔点,熔融石英粉,熔融石英折射率,熔融石英坩埚,熔融石英陶瓷,HF酸..
是导致损伤阈值降低的重要因素.HF刻蚀是目前广泛使用的元件后期处理技术,通过HF刻蚀,能有效的消除元件的杂质元素,钝化划痕等亚表面缺陷,极大的提高光学元件的损伤阈值.本文探讨了影响熔石英材料激光损伤的机理,重点研究了HF酸刻蚀对材料各主要特性的影响,讨论了HF刻蚀对损伤阈值影响的机理,为进一步确定刻蚀工艺参数提供了...