halftonemask，主要是通过特定区域的部分透光特性曝光形成两种不同的膜厚，通过控制光罩基板上不同区域的铬膜的厚度，来控制不同区域的透光度。halftonemask这种光光罩的设计和制作工艺要求都比较高，且残膜区的光阻的膜厚的均一性较低，所以容易产生破膜现象。由于曝光和药液扩散作用，残膜中间会先破膜，...
1) halftone mask 半色调掩膜1. Diffraction and interference phenomenon in the halftone mask fine pattern forming process was analyzed. 针对使用半色调掩膜技术的TFT LCD玻璃基板曝光过程中的衍射和干涉现象进行了分析。2) gray tone mask 灰色调掩膜...