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还有用汞绿线(546.07纳米)测定的折射率中ne计算的阿贝数Ve : 光线色散程度越大阿贝数越小,反之光线色射程度越小阿贝数越大。光学玻璃的两个重要参数是折射率和阿贝数。肖特玻璃目录中光学玻璃的阿贝数界于20-90之间。冕牌玻璃和燧石玻璃的分界: 折射率≤1.6, V≥50:冕牌玻璃 V<50:燧石玻璃 折射率<1.6 V≥5...
摘要 本发明公开了一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:清洗光学玻璃上的杂质,将光学玻璃放置在蒸馏水中通过浸泡5～10min,浸泡过后,通过软毛刷刷洗2～5min,在刷洗后,采用超声波处理4～8min,将光学玻璃从蒸馏水中取出,在将取出的光学玻璃表面通过高温蒸汽杀菌10～20min,最后在通过烘...
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最后在通过烘干机烘干20～30min.该一种新型光学玻璃材料HFK61的抛光工艺,通过物理粗抛光处理,物理半粗抛光处理和物理精抛光处理,在通过将物理抛光进一步细分的情况下,能够更有效的适应各种情况下光学玻璃的抛光,且使得物理抛光能够达到更进一步分精度,使得经过物理抛光后的光学玻璃表面光滑度和透明度达到光学玻璃的使用...
本发明公开了一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:清洗光学玻璃上的杂质,将光学玻璃放置在蒸馏水中通过浸泡5～10min,浸泡过后,通过软毛刷刷洗2～5min,在刷洗后,采用超声波处理4～8min,将光学玻璃从蒸馏水中取出,在将取出的光学玻璃表面通过高温蒸汽杀菌10～20min,最后在通过烘干机烘...
玻璃材料H-FK61的抛光工艺 (57)摘要 本发明公开了一种新型光学玻璃材料 H‑FK61的抛光工艺,其特征在于,包括以下步 骤:清洗光学玻璃上的杂质,将光学玻璃放置在 蒸馏水中通过浸泡5～10min,浸泡过后,通过软 毛刷刷洗2～5min,在刷洗后,采用超声波处理 4～8min,将光学玻璃从蒸馏水中取出,在将取出 的光学玻璃...
本发明专利技术公开了一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:清洗光学玻璃上的杂质,将光学玻璃放置在蒸馏水中通过浸泡5～10min,浸泡过后,通过软毛刷刷洗2～5min,在刷洗后,采用超声波处理4～8min,将光学玻璃从蒸馏水中取出,在将取出的光学玻璃表面通过高温蒸汽杀菌10～20min,最后在通过...
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