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GK-3型半自动光刻机的诞生标志着我国光刻机研发的起步,为我国半导体产业的发展奠定了基础。随着技术的不断进步和发展,我国的光刻机研发水平不断提高,已经成为我国半导体产业的重要支撑。GK-3型半自动光刻机的成功研制,不仅是我国半导体产业...
目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv 2022-07-10 14:53:10 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享 据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进...
可是到目前为止,世界各国还没有真正可以使用的自动光刻机,都仍有很多问题需要改进和完善;如果采用半自动光刻机完成光刻工序的主要劳动,即将是非常合适的.首先,它比手动光刻机的生产率高,劳动强度低,质量稳定.再者,它比自动光刻机造价低廉,易维护,对环境要求和工艺要求都不那么严格.同时,它也是发展自动光刻所必不...
林毅夫:ASML首席执行官担心,3年后中国就能掌握光刻机技术 按下【键盘上下键】或滑动【鼠标滚轮】切换视频 同时支持点击【屏幕上下按钮】切换视频