型号 FPA-8000iW 加工定制 是 解析度 ≦1.0µm NA(数值孔径) 0.24-0.12(可变) 减速比 1:2 曝光范围 52*68mm 曝光波长 i-line 365nm 光罩尺寸 6英寸 基板尺寸 515*510 mm 叠加精度 ≦200mm 主体尺寸 3000*4800*2700mm 品牌 佳能 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价
佳能1将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线2步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。该款新产品是佳能半导体光刻机产品线中，首个可对应大型方形基板的面向后道工序的光刻机。该产品配备佳能自主研发的投影光学...
佳能1将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线2步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。 该款新产品是佳能半导体光刻机产品线中,首个可对应大型方形基板的面向后道工序的光刻机。该产品配备佳能自主研发的投影光学...
二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW最大处理515*510mm的大型面板基板,可实现大封装PLP生产,同时具备1.0μm的分辨率,高效灵活。 特征和优势 i-line stepper "FPA-8000iW" 适用于最大 515 x 510mm 的大型面板基板 宽曝光范围(52 毫米 x 68 毫米或 55 毫米 x 55 毫米)。 1.0 μm 的高分辨率可在宽广...
佳能将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米的高解像力。该款新产品是佳能半导体光刻机产品线中，首个可对应大型方形基板的面向后道工序的光刻机。该产品配备佳能自主研发的投影光学系统...
发货地 山东青岛 商品类型 机械设备 、 行业专用设备 、 其他行业专用设备 商品关键词 佳能光刻机现货、 佳能二手光刻机、 佳能i、 line光刻机、 佳能步进式光刻机、 光刻机FPA、 8000iW 商品图片 商品参数 品牌: 佳能 是否支持加工定制: 是 是否进口: 是 产量: 1 成新: 二手 加工定制...
佳能1将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线2步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。 该款新产品是佳能半导体光刻机产品线中,首个可对应大型方形基板的面向后道工序的光刻机。该产品配备佳能自主研发的投影光学...
■ 实现1.0微米的解像力,对应高端封装佳能自主研发的投影光学系统可实现52×68mm的大视场曝光,达到了方形基板封装光刻机中高标准的1.0微米解像力
佳能将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米的高解像力。 该款新产品是佳能半导体光刻机产品线中,首个可对应大型方形基板的面向后道工序的光刻机。该产品配备佳能自主研发的投影光学系统,...