3. 开始溅射:将待处理材料放置在溅射室内,关闭室门,启动溅射程序。在溅射过程中,应密切关注设备的运行状态。 4. 结束操作:溅射完成后,设备会自动停止。此时,应等待设备冷却至安全温度后,再打开溅射室门取出处理后的材料。 二、ETD-2000离子溅射仪出现紫色指示的解读 在操作ETD-2000离子溅射仪...
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ETD-2000,3000离子溅射仪说明书
商品类型 办公文教 、 教学模型/器材 、 真空镀膜机及附属装置 商品关键词 喷金、 喷碳、 喷金喷碳一体、 碳绳、 离子溅射仪 商品图片 商品参数 品牌: 博远微纳 适用范围: 镀膜 工作真空: 20Pa 尺寸: 305mm×400mm×390mm(W×D×H) 溅射靶材: 直径50mm 喷碳样品台尺寸: 直径70mm 溅射时间...
ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。 在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电...
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ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。 常规Au /Pt 金靶 主要特点: 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态; ...