应用材料公司的 Centura Pronto ATM Epi 高生长速率腔室是对现有的 ATM 和 RP 外延腔室的补充,可以在 150/200mm 单室中生长厚膜和薄膜(单次生长 <20μm 到 150μm),生产效率高,生长速率达到每分钟 6μm。该系统提高了中心到边缘的均匀性及晶圆到晶圆的可重复性,从而改善了在片性能。
of in-line inject valves on Epi Centura 300 systems. ATM Abbreviation of atmosphere/atmospheric with relation to the system. Base Ring Provides the foundation for the process chamber assembly. Backfill In/Out Pumpdown and backfill of the SWLL with nitrogen. ...
選擇性製程 Centura Prime Epi Centura® Prime® EpiLeveraging Applied’s epitaxy expertise gained with the industry-leading Centura RP Epi system over almost two decades, the Centura Prime Epi maintains the core of that system while improving upon the tool configurability and process capabilities ...
正如应用材料公司全球服务产品事业部设备产品部 200 毫米半导体及晶圆厂解决方案部门的副总裁兼总经理原铮博士所说:“应用材料公司凭借自己在行业 20 年来的经验,重新设计了 200 毫米 Epi 腔体,形成了一套高生产力的 Centura Epi ATM 解决方案,能够在同一个腔体内实现宽范围的 Epi 厚度,并将薄膜生长速率提高 30%...
在新的 200mm 技术上,应用材料公司 Centura 刻蚀反应器解决了以下难题:MEMS 深宽比 >100:1 的硅刻蚀、SJ MOSFET 一体化硬掩模开槽带以及面向 LED 和功率器件的氧化铟锡和氮化镓等新材料。目前,约有 2,000 台 Centura 刻机蚀已投入运行,为客户提供了高生产率的硅、铝和介电质刻蚀解决方案。 应用材料公司的...
Model Centura EPI 8 inch Wafer Size Range Minimum 200 mm Maximum 200 mm Set Size 200 mm Number of Chambers 3 Chamber 1 Description White Body Cassettes; 1xprocess chamber Std. EPI; 2x poly chambers; vita controller; 3xModorized Rotation/Lift Infineon homemade; new upgraded blower control...
低k介电层等多种材料的沉积;PVD设备方面,Endura支持1xnm以下的金属化淀积,应用包括阻挡层、铜种子层等;ALD设备方面,Centura iSprint支持1xnm以下的钨塞填充,Olympia支持介电层薄膜的ALD淀积;电镀设备方面,Nokota支持20nm以下的铜、锡/银合金、镍、金电镀;外延方面,Centura EPI 系列用于锗和硅锗晶体基层的外延生长...
Centura®=141.2 ft2*/chamber *BothfiguresincludePowerModule,butnot pumpsorotherauxiliaryequipment. **FloorSpaceincludessystemfootprintplus minimumallowableaccessareaperS2/S8 requirements. Epsilon®3200SystemLayout 5ConfidentialandProprietaryInformation©2005ASM ...
Share Reactor Module EMO Left Load Port Right Load Port Wafer Transfer Module Temperature Controller Gas Module Power Module Same compact layout as E2000 (with added FEI and load ports) User Interface FEI Floor Space** Comparisons: Two 3200’s = 135.7 ft2*/chamber One dual chamber Centura? =...
AMAT 0010-75005 Centura load lock chamber VARIAN PPM 992622, 87-195861, PCB, 40MHZ, DM992622-00 PORTER Liquid flow controller, P2000IBC010&P2000I-C020 LUMONICS EXTENDER BOARD 6050011 REV A Swagelok 6LVV-DPVVR4-P-C, NEW in the box, lots of 8 ...