Elionix 电子束光刻,高効率加工电子束曝光系統High Efficient Electron Beam Lithography SystemELS-HS50ELS-HS50主要概要•束斑电流1nA to 1000nA•最小线宽优于20nm or less• Sub μ order to Nano order patterning&b
日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125/F100/HS50 ELS-F125是Elionix推出的世界上首台加速电压达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125) ELS-F125具有以下优点: l 。超高书写精度 - 5 nm 线宽精度 @125 kV ...
日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125/F100/HS50世界上首台加速电压达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点:l 。超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @125 kV2. 大通量、均匀性好- ...
日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125,是Elionix推出的世界上首台加速电压达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。 详细介绍 日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125/F100/HS50 ELS-F125是Elionix推出的世界上首台加速电压达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽...