EKC清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其工作原理主要包括以下几个步骤: 去胶:使用含有氧化剂和酸性物质的化学溶液,通过化学反应使光刻胶溶解或变得容易去除。同时,机械抛动作用能够加速化学溶液与光刻胶的接触,促进反应的进行。 酸洗:将工件浸泡在酸性溶液中,利用酸性溶液的化学作用去除表面的氧化物和杂质
EKC清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其工作原理主要包括以下几个步骤: 去胶:使用含有氧化剂和酸性物质的化学溶液,通过化学反应使光刻胶溶解或变得容易去除。同时,机械抛动作用能够加速化学溶液与光刻胶的接触,促进反应的进行。 酸洗:将工件浸泡在酸性溶液中,利用酸性溶液的化学作用去除表面...
EKC清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其工作原理主要包括以下几个步骤: 去胶:使用含有氧化剂和酸性物质的化学溶液,通过化学反应使光刻胶溶解或变得容易去除。同时,机械抛动作用能够加速化学溶液与光刻胶的接触,促进反应的进行。 酸洗:将工件浸泡在酸性溶液中,利用酸性溶液的化学作用去除表面...
EKC清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其工作原理主要包括以下几个步骤: 去胶:使用含有氧化剂和酸性物质的化学溶液,通过化学反应使光刻胶溶解或变得容易去除。同时,机械抛动作用能够加速化学溶液与光刻胶的接触,促进反应的进行。 酸洗:将工件浸泡在酸性溶液中,利用酸性溶液的化学作用去除表面...