Aoki 等人在扫描电镜中使用SXES研究了电化学光化硅 (111) 的组成。通过将 SXES 结果与状态密度的理论计算结果进行比较,研究人员确定了在Si (111) 衬底上形成的三种LiSi相,即Li15Si4合金相、Li15Si4和/或Li13Si4的无定形相以及Li15Si4 和/或Li13Si4 (52%)与Si (48%) 的混合相。 N. Aoki, Structural ...
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材料与器件检测技术中心微区分析平台拥有两台扫描电子显微镜,分别为Thermo Scientific Apreo 2S热场发射扫描电镜与日立HITACHI SU8010冷场发射扫描电镜,除常规SEM测试外,还配有真空转移盒及样品前处理设备,如全自动三离子束切割抛光仪(CP)、...
Part #EDSX6-111E DownloadEDSX6-111EDownload File Size293.69 Kbytes Page8 Pages ManufacturerFUJI [Fuji Electric] Direct Linkhttp://www.fujielectric.co.jp/eng/fdt/scd Logo DescriptionULTRASONICFLOWMETER<TIMEDELTAF(FlexibleType)> Similar Part No. - EDSX6-111E ...
EDS分析的几个关键问题 1 EDS分析的几个关键问题 一、EDS定量分析方法及相关术语标准二、EDS定量对试样的要求三、低真空、环境扫描电镜的EDS分析四、EDS定量分析方法及校正方法五、EDS定量计算方法及归一化选择六、EDS定量误差及探测限 2 七、影响定量误差的几个主要因素八、EDS分析条件的选择九、轻元素的定量分析十...
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采用NaOH溶液对P型(111)单晶硅片进行去除损伤层和制绒处理,硅片的厚度为190±10μm,电阻率为2±0.5Ω·cm。分别对硅片进行单面POCl3磷扩散,等离子增强化学气相沉积(PECVD)法单面镀膜SiNx∶H钝化,以及背面电极、背面电场和正面栅线电极印刷,最后经过高温烧结形成较好的欧姆接触。
2.根据权利要求1所述的EDS能谱仪,其特征是:所述的控制器(1)包括上位机中框(11)、上位机第一散热板(12)、上位机第二散热板(15)、上位机第一控制板(19)、上位机第二控制板(110)、上位机第三控制板(111)、下位机中框(13)、下位机第一散热板(14)、下位机第二散热板(16)、下位机第一控制板(112)...
部件名EDS11-110A 下载EDS11-110A下载 文件大小521.48 Kbytes 页9 Pages 制造商FUJI [Fuji Electric] 网页http://www.fujielectric.co.jp/eng/fdt/scd 标志 功能描述MICROCONTROLLERE 类似零件编号 - EDS11-110A 制造商部件名数据表功能描述 Fuji ElectricEDS11-111C ...