EBL光栅代工服务 公司拥有国际先进的磷化铟基半导体生产线,1400平方米百级/千级超净室生产车间、2000多平方米办公/检测厂房,步进光刻机、EBL电子束曝光机等完备齐整的研发制作设备,最高光刻精度<10nm。具备EBL光栅写直、刻蚀等代工服务能力,且能够满足客户的订制要求。
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功能用途 ● EBL-90E 弹簧全数控绕簧机头,数字化的调整方式 ● EBL-90E 可内置数十种弹簧规格,以备调用! ●机器运行稳定性久,产品质量高 ●先进的操作系统、简单、方便 ●伺服马达控制弹簧间距精准,易于调整宽度 ●防护等级高,更加人性化 ●艺术化的外观设计,车间不单调 技术参数...
1、DY-2000A纳米通用图形发生器操作规范以及注意事项一、电镜开机,依次打开图形发生器、精密压电陶瓷位移台、计算机。二、样品准备:开始曝光测试前,应先把样品放到电镜中。样品通常是表面涂有电子抗蚀剂(如PMMA胶)的硅片。为了便于定位曝光区域和进行聚焦,建议在样品上作标记。将样品放入扫描中,抽真空2h。三、真空抽...
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