这种利用自由基反馈调节的方法为设计具有高分辨率、高灵敏度的锡氧团簇EBL光刻胶提供了新的思路。 Figure1.Schematic illustration of free radicals feedback regulation of hybrid formulation. Figure2.(a) CD and (c) LER of pattern lines of2Me8Bu,5Me5Bu, and8Me2Burose in the wake of the increasin...
迈可诺技术有限公司供应ma-N 2400、mr-EBL-Micro Resist电子束及深紫外光刻胶供应产品,德国MicroResist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选
Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶(1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂),PMMA是常用的普通正阻剂;SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。的SML正阻剂特点:无需邻近效应校正,低加速电压下也能使用,可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件,特别适合科研应用;有SML50、SML100、...
紫外负性光刻胶 紫外负性光刻胶是西安瑞禧生物科技有限公司的生物试剂材料。 紫外正性光刻胶 紫外正性光刻胶是西安瑞禧生物科技有限公司的生物试剂材料。 聚酰亚胺光刻胶 聚酰亚胺光刻胶是西安瑞禧生物科技有限公司的生物试剂材料。 共价键合单分子树脂光刻胶 共价键合单分子树脂光刻胶是西安瑞禧生物科技...
当年我用的时候从来没突破过0.2um，在我眼中是很烂的EBL光刻胶，因为它本身就是光学胶。
需要ZEP520A的可以联系我公司，最小量100ml起卖 QQ:2359670721 发自小木虫Android客户端 ...
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科研用EBL光刻胶一批,建议品牌、建议型号、保修期及产品技术指标详见本公告附件。 四、商务要求 1、送货地点:广州市南沙区笃学路1号香港科技大学(广州) 2、交货期:按采购人要求 3、支付方式:按采购人要求 4、售后服务要求: 1)供应商负责包装并按采购人要求时间地点运送至采购人指定地点,运输费用由供应商承担; ...
待采购详细(202401800022)---西安电子科技大学广州研究院 申购单主题:EBL光刻胶及其配套试剂 申购单位:广州研究院 设备1 设备名称:A4 品牌:MICROCHEM 型号:950 PMMA A4 数量:2.0 报价类型:国内含税价/人民币 售后服务: 规格:1.到货后剩余质保期不少于9个月;2.分批发货,接到通知后4个月内交付; 3. 需要原装...
MR-EBL 6000系列用于电子束光刻 1)抗蚀剂图案具有出色的热稳定性 2)高耐干湿蚀刻性 3)高分辨率(〜40-50 nm) 4)需要曝光后烘烤(PEB) 电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,*的抗干刻、湿刻性能;光刻胶图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-80 nm以下;碱性水溶液下显影; 应用领域 用于微电子和纳米电...