现有一批 9.5 成新的优质芯片设备出售。E-Beam 电子枪蒸镀机,能够精准控制镀膜厚度与均匀度,为芯片披上高质量的“外衣”;Sputter 磁控溅射镀膜机,以高效稳定的性能确保膜层附着力强、纯度高;半自动针测机,精细探测芯片内部电路,精准定位每一处细微瑕疵;扩散氧化炉,严格把控温度与气氛,助力芯片实现完美的扩散与...
镀膜设备 全部产品列表 产品简介 E-Beam电子束蒸发镀膜系统304不锈钢圆柱形腔体,标准直径有18英寸和24英寸,分子泵或冷凝泵;手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm大的圆片,高真空背景传递;PLC自动控制界面,菜单控制,数据获取和远程控制,QCM膜厚监控,光学膜厚监控。
电子束蒸发设备—E-Beam-UHV 电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。
电子束光刻(E-beam lithography)始于上世纪60年代,是在电子显微镜的基础上发展起来的用于微电路研究和制造的曝光技术,是半导体微电子制造及纳米科技的关键设备、基础设备。电子束光刻是由高能量电子束和光刻胶相互作用,使胶由长(短)链变成短(长)链,实现曝光。相比于光刻机具有更高的分辨率,主要用于制作光刻掩模版、...
这个E beam检测设备,是在台湾生产的。是ASML 4年前用30亿美金并购的台湾公司HMI做的。【转发】@快科技官方:【5nm工艺起飞 ASML宣布全新半导体技术:产能大涨600%】提到荷兰ASML公司,大家都知道他们是全球唯一...
超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System 电子束蒸发系统LJ-550E主要指标: 类型: 1x20cc,4x70cc, 3KW, 6KW 真空(Torr) 5×10-7,5×10-9 压力控制: 可选 流量控制: 可选 加热: 400 ℃ 基板: 2,3,4,6,2"x5 or bigger 晶片转速: 30-120rpm 辅助沉积工艺:离子源辅助,等离子体辅助,基座偏压...
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型号:E-beam --- 产品参数 --- 产地台湾 --- 产品详情 --- 价格货期电议 电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System 电子束蒸发与热蒸发对比, 能够在非常高的温度下熔化材料, 如钨, 石墨 ... 等等. 结合石英震荡片的反馈信号, 可轻松控制蒸发速率, 以调节电子束电流并蒸发更多材料而不会破坏真空. 因此...
上海伯东代理 E-Beam电子束蒸发镀膜机 ( 电子蒸镀 ), 最大真空度可达 5E-10 torr, 提供客制化服务. 推荐设备型号:EBS-150 标准的设计, 左边 load lock 腔体, 包含氧化和蚀刻过程; 右边沉积腔内含一个电子束,适用于约瑟夫森结, 特性: 真空度 5E-8 torr ...
针对电子束(E-Beam)灭菌设备市场容量数据统计显示,2022年全球电子束(E-Beam)灭菌设备市场规模达到 亿元(人民币),中国电子束(E-Beam)灭菌设备市场规模达到 亿元。依据市场历史趋势并结合市场发展趋势,预测到2028年全球电子束(E-Beam)灭菌设备市场规模将达到 亿元,在预测期间市场规模将以 %的年复合增长率变化。