翻译 E-beam lithography [iː bim lɪˈθɑɡrəfi] 释义 [计]电子束平版印刷术 实用场景例句 全部 Individual sodium titanate nanowire - based device is fabricated via e - beam lithography techniques. 利用电子束光刻技术制作了基于钛酸钠纳米线的纳米器件. ...
We present an all-e-beam lithography(EBL) process for the patterning of photonic crystal waveguides.The whole device structures are exposed in two steps.Holes constituting the photonic crystal lattice and defects are first exposed with a small exposure step size(less than 10nm).With the ...
电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系...
英文名称: 电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 、 电子束曝光系统 总访问: 2178 国产/进口: 进口 半年访问: 8 产地/品牌: 日本CRESTEC 产品类别: 电子显微镜 型号: 电子束光刻系统EBL 最后更新: 2025-1-8 货号: 电子束光刻系统EBL 参考报价: 立即询价 电话咨询 ...
网络释义 1. 电子束微影系统 研究平台... ... 电子枪真空蒸镀系统( E-Gun System)电子束微影系统(E-beam lithography system) 高分子化学气相沈积系统… cnmm.web.nthu.edu.tw|基于90个网页 2. 电子束曝光机 曝光机,Exposure... ... ) electron beam exposure machine 电子束曝光机 )E-beam lithography...
www.ab126.com|基于17个网页 3. 电子束光刻 在光刻模块,采用电子束光刻(E-beam lithography)技术可实现22纳米及以下技术代的图形化。采用高K/金属栅的栅工程模块… yz.kaoyan.com|基于16个网页 更多释义 释义: 全部,电子束微影技术,电子束微影术,电子束光刻...
Lithography using a single beam e-beam tool Description Originally developed by IBM in the 1980s, electron-beam lithography makes use of a single-beam e-beam tool. E-beam lithography is sometimes known as maskless lithography or direct-write lithography. The e-beam directly writes patterns on ...
instructions for the TESCAN MIRA 3, E-Beam Lithography tool. This tool is intended for nano-patterning by electron beam.II.SAFETY A.This machine’s detailed sa fety information can be read in the User Manual.B.Record the tool malfunction, breakage, etc. in the log-sheet and send an ...
电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography)电子束直写系统 、 电子束曝光系统CABL-9000C series纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪 纳米科技提供 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 型号包括CAB...
adance with the standard lift-off process, includes three steps.In the first step, a pattern is defined on the photoresist using e-beam lithography. Second, a copolymer film thinner than 舞蹈以标准离地升空过程,包括三步。在第一步,样式在光致抗蚀剂被定义使用e射线石版印刷。 其次,共聚物影片...