TWINSCAN NXT:2000i 包括一个 1.35 NA 193 nm 折反射投影镜头,可实现低至 40 nm(C-quad)和 38 nm(偶极子)的生产分辨率,以及支持全 26 x 33 mm 视场大小、4X减少和与现有设计的标线兼容性。 FlexRay Prepared Illuminator 扩展了传统和离轴照明的范围,以实现用于低 k1 成像的高级瞳孔整形。 03. 成像性能 ...
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一...
海图电子 duv2000i能生产7nm和14nm两种制式的芯片,也有说法是它可以用于7nm/5nm芯片的制造。
ASML,2000i..阿斯麦这一波很可能钓鱼,先把国内的订单全款收了。然后美国配合一波,以不可抗力拖到明年不发货。阿斯麦业绩有了,还不用发货。明年说不定美国收紧口子,别说1980Di了,连干式ArF都管制了而且我觉得阿斯麦
ASML最顶级的DUV光刻机为nxt2000i分辨率38nm? 只看楼主收藏回复 YonPip 现代级 9 送TA礼物 来自Android客户端1楼2021-02-04 10:58回复 YonPip 现代级 9 该型号光刻机于2018年年底出货给台积电用于生产麒麟990 骁龙865 A13芯片 来自Android客户端2楼2021-02-04 10:58 回复 ...
The TWINSCAN NXT:2000i is a high-productivity, dual-stage immersion lithography tool designed for volume production of 300 mm wafers at advanced nodes. The system is equipped with an in-line catadioptric lens design, with a numerical aperture (NA) of 1.35 – the highest in the industry. ...
ASML, the company known for producing equipment for the manufacture of processors and semiconductors at foundries, has started to ship its new Twinscan NXT:2000i DUV (Deep Ultra Violet) scanner that matches overlay performance of the company’s Twinscan NXE:3400B EUV (Extreme Ultra Violet) ...
回复@重股铸金: 国产duv性能比阿斯麦的duv2000i好大约30%,euv现在正在追还差半代。//@重股铸金:回复@阿杰--愚憨人:3、中国芯片制造设备实现自主可控。 不是吹的吧,真的中国肯定是世界第一了。 2024-08-04 07:54 剧情反转: 1、中国半导体出口上半年增长5427.4亿美元,大增25.6%; ...
NXT2000i是ASML旗下DUV最高的产品~可以上7nm!~中国除了中芯华虹还有几家,总共七八台~美国半导体企业要放弃中国大陆庞大市场就滚吧~[哈哈]【转发】@攻城师长:呵呵~无锡海力士已经入厂最新的2000~
作者: 全部讨论 “荷兰政府也已经颁发了我们截至9月1日所需的许可证,允许ASML今年继续发运TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。” →这是重点。 →市场之前说2000i Duv不能卖,现在继续卖了。 码农平头哥 广州小乞丐 萌萌记