浸润式DUV技术的分辨率通常为38纳米，而如果使用SASP方案，分辨率可以提升到6分之一，达到6.3纳米的半间距。至于2纳米芯片，其半间距为10纳米。理论上，2nm芯片可以利用DUV光刻机进行生产。不过，这种SASP方案在SADP（双对准）后需要紧接着进行SATP（三对准），这增加了制造的难度。无论情况如何，这为我们指明了有...
换句话说，所谓的3nm芯片，并不是指芯片的最小线宽达到了3nm，而是借助架构和工艺的提升，实现了“同3nm芯片一样的能效”。 目前，包括台积电、英特尔等半导体企业，已经纷纷更新了新制程的立项。12月14日，台积电在IEEE国际电子器件会议上透露，1.4nm级制造技术已经开始研发，名为14A，目前进展顺利，预计将于2027年...
有人预估现有技术条件搞5nm（最理想化情况、不考虑对其精度不足等问题）良品率可能不足15%，3nm更是...
这种打压并非新鲜事。早在2019年，美国就已开始禁止向中国出口更先进的EUV光刻机。这种光刻机使用13.5nm波长，可直接制造7nm以下甚至3nm的芯片，目前仅由ASML公司生产，且全球存量稀少，主要被台积电、三星、英特尔等少数几家芯片巨头所拥有。当时，中国芯片产业尚未触及EUV水平，因此该禁令未引起广泛关注。但随着时间的...
哎呀，你听说过ASML的3nm光刻机吗？那可是芯片制造业里的顶级神兵啊！光刻机就像是芯片制造的魔术师，决定着芯片能不能做得又小又快又强。而3nm呢，简直就是把这魔术做到了极致，要求的技术和性能高得吓人。咱们拿这光刻机比作车吧，就像法拉利一样，性能爆炸，但是买下来的钱能买好几辆普通轿车了。而咱们国产...
实现 8纳米制程对于制造计划在 2025-2026 年上市的 3nm 以下制程芯片至关重要。高数值孔径 EUV 技术的引入将消除对 EUV 双重曝光的需求，从而简化生产流程、有可能提高产量并降低成本。从商业的角度看，尽管ASML被美国施压，不被允许出口到中国，但中国地区销售额占据ASML半壁江山。ASML的产品由低端到高端排序的I-...
唯一还不如国外的是3nm、2nm这类最顶尖芯片，但它们主要用途就2个：一是用于手机等消费电子，如今全球消费降级，用量不大；其二是用于AI这类的，然而如今AI并没有产生革命性突破，美国折腾了半天也就搞出ChatGPT那么个答案经常出错的辅助性工具，此类顶尖芯片在当前效能有限。若是顶尖芯片能够产生AI质变，进而出现...
制程能力的较量：EUV引领未来，DUV坚守阵地 当我们谈论半导体制造，制程能力是一个绕不开的话题。EUV凭借其极短的波长，成为了10nm以下晶圆制造的得力助手，甚至有望助力5nm、3nm等更先进制程的实现。这意味着，EUV技术是推动高性能计算机芯片、5G通信设备以及人工智能应用等前沿科技发展的关键。相比之下，DUV的制程能力...
实际上,生产7nm及以下工艺的芯片通常需要更高的套刻精度,如小于3nm,且通常依赖于更先进的EUV光刻技术。 二、中国能否制造DUV光刻机 中国在光刻机技术的研发和制造方面已取得了显著进展。根据官方消息和行业报告,中国已经能够制造DUV光...
光刻机界的“核武器”对决：EUV与DUV的生死较量 随着半导体行业向3nm/1nm制程冲刺，光刻机领域的"世界大战"进入白热化阶段。荷兰ASML的EUV光刻机以13.5nm波长的"纳米级雕刻刀"，正在改写全球芯片格局；而DUV光刻机仍以193nm波长的"精细刻刀"，坚守着成熟工艺的阵地。这场技术博弈，不仅关乎企业生死，更牵动着大...