Dummy metal的主要作用是为了满足密度DRC。如图1所示,金属密度越高,加工时的Polishing Rate越大,导致金属越薄。它会有以下影响: (1)等效电阻、电容改变:当某一区域的金属密度不在drc给定范围后,导线的“仿真模型”和“实际模型”会有较大的偏差。金属越薄,方阻越大,单位长度寄生电容越小。 (2)电路的一致性受损...
此时不考虑Dummy对Timing的影响重新抽RC进行STA也是可以的。当然Star RC也提供了相应的解决方案,可以考虑Dummy metal来抽取RC,保险起见也可以用这种方法来抽RC重新进行STA对Timing进行Signoff。 在28nm之后的工艺甚至先进工艺里面,用这种方法来添加Dummy就不是特别合适了,因为它们对Timing的影响蛮大的,很多时候需要做Timin...
区别于以往的直接插入dummy metal fill来进行各种分析,IVMF功能可以直接在参数提取过程中根据实时的模型文件 (rule table) 去模拟dummy metal fill的影响,直接预估它们会带来的寄生参数的影响,由此直接进行各种物理信息及时序信息的仿真。 2 Quantus Integrated Virtual Metal Fill (IVMF) 解决方案 对于其他静态时序分析工...
在28nm以及之前的工艺中,Dummy metal对Timing的影响不是很大,因此一般在PR工具中做完布局布线之后导出GDS,然后进行Layout merge,然后用Calibre对Layout添加Dummy即可。此时不考虑Dummy对Timing的影响重新抽RC进行STA也是可以的。当然Star RC也提供了相应的解决方案,可以考虑Dummy metal来抽取RC,保险起见也可以用这种方法来抽...
1、保证可制造性,防止芯片在制造过程中由于曝光过渡或不足而导致的蚀刻失败:如在tapeout的时候会检查芯片的density,插入dummy metal、dummy poly、dummy diff等; 2、避免由于光刻过程中光的反射与衍射而影响到关键元器件物理图形的精度进又而影响其size:如在模拟电路的电阻、电容阵列外围加上dummy res和dummy cap等,...
就是“伪器件”，统称dummy 作用是一些关键器件需要匹配，需要让版图中周围环境一致，所以要摆上一些没有功能、但是可以仿造器件周围环境的东西，就是dummy。dummy metal指的就是作为dummy的金属层
Cadence公司的Quantus中提供的IVMF功能在各个工艺节点都具有很高的精度,对于Metal Fill的模拟可以帮助工程师在布局绕线的同时考虑到Metal Fill对于芯片整体的影响,从而有效提高整体的设计效率,保证整体设计周期。 一、Dummy Metal fill对于先进工艺的影响 化学机械抛光(Chemical-mechanical polishing,简称CMP)是半导体工艺的一...
对于铜金属导线制程中用到的双嵌刻结构dualdamascene在这不讨论至此工艺上完成一层metal的布线在进行后续工序前要对wafer表面进行全面平坦化globalplanarization处理采用方式譬如cmpchemicalmechanicalpolishing化学机械抛光然后沉积介电材料绝缘体dielectrics接着在理想的planarization平坦化处理后的wafer表面做下一步的布线 添加...
必应词典为您提供dummymetal的释义,网络释义: 虚拟金属刻线;假金属;
Home ACM Dummy MK13 MOD Metal Model SKU: SA-15-25ACM Dummy MK13 MOD Metal Model Vendor ACM Sale price HK$99.00 HKD Regular price HK$155.00 HKD Sold out Shipping calculated at checkout. Quantity: Sold out Adding product to your cart...