🔍 SU-8光刻胶使用步骤 基底准备 在使用SU-8光刻胶之前,确保基板干净且干燥。 清洁基板:使用硫酸和过氧化氢的混合液(piranha etch)进行湿法清洗,随后用去离子水冲洗。 可选清洁方法:使用反应离子蚀刻(RIE)或其他含氧的桶式装置进行清洗。 预处理:对于某些应用(如电镀),推荐使用MCC Primer 80/20 (HMDS)对基...
首先,我们需要使用旋涂机来旋涂SU-8光刻胶,以形成所需的光刻胶层。旋涂技术是制造微流控芯片的关键步骤之一。以下是旋涂SU-8光刻胶的一些关键点: 确保旋涂机是平坦的。 将晶圆放置在旋涂机卡盘的中心,以获得均匀的光刻胶分布。 将光刻胶放置在晶圆的中心位置。 采用两步旋涂法:首先以低旋转速度和低加速度旋...
型号 ,90BER10S 85BAR10 80BNR10 SU DB DF DT DBD DBB 货号 01-99 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订...
SU-8模具的加工过程可以分为以下九个主要步骤: 准备晶片/圆片 🛠️ 即使是新的晶片,在涂抹SU-8光刻胶之前也需要进行充分的准备。在洁净室内,可以使用食人鱼溶液(H2SO4+H2O2)清洗晶片;在洁净室外,可以使用丙酮溶液清洗。如果晶片的表面状态良好,也可以不进行清洗,但建议进行加热处理以去除表面水分。例如,可以在...
在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作中,选择合适的旋涂转速是关键,它能决定PDMS胶或SU-8光刻胶的厚度和涂布均匀性。旋涂技术是基底上SU-8光刻胶图层的主要方法,通过在旋转的基底上放置一小滩SU-8光刻胶,旋转速度、加速度和光刻胶的黏度共同决定图层的厚度。🔬...
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发货地 广东东莞 商品类型 冶金钢材 、 合金 、 铁合金 商品关键词 DT9六角纯铁、 DT9工业纯铁、 SUYB2原料纯铁 商品图片 商品参数 产品特性: 板.棒.带材 是否进口: 否 产地: 宝钢.本钢.湘钢 牌号: DT9 粒度: 常规 含铁量: 常规 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具体的成交价格可能因商品...
在微电子制造中,SU-8光刻胶的烘烤是一个至关重要的步骤。以下是确保成功烘烤SU-8光刻胶的关键参数: 晶圆位置 📍 确保晶圆放置在热板的中心区域,以获得均匀的温度分布。热板边缘可能会出现温度梯度,影响烘烤效果。 热板清洗 🧼 在放置硅片之前,务必清洁热板表面,去除灰尘,以保持温度的均匀性。
第三次烘烤称为硬烘,是整个SU-8模具制作过程的最后一步,但它是可选项。在SU-8模具制作过程中,SU-8光刻胶内部可能残留有大量的强度应力,这些应力会在胶层表面产生裂纹,导致胶层分层。硬烘在高温下(超过120°C)加热SU-8光刻胶,以抑制这些强度应力。硬烘后,胶层表面上的部分裂纹会消失,SU-8光刻胶变得更坚...