电子束蒸发镀膜装置 半导体硅片 再生晶圆 设备配件洗净 单晶硅棒拉晶设备 石英坩埚 电子器件产品 磁性流体 热电半导体产品 冷水机 热敏电阻 功率半导体基板 太阳能电池相关 硅产品 太阳能电池拉晶技术 太阳能电池用硅片 太阳能电池片 其他关联产品 硬质合金锯片 工業用刀具 外协加工 商用清洗设备 设备相关产品制造工程不...
简介:采用双区加热方式,加热生长气体,实现稳定的温度梯度。该装置采用双区加热系统,采用电磁阀线圈,可分别控制生长气体和基板的温度。※此外,我们根据客户的要求生产高温CVD设备。特点:采用2个区域,按区域进行功率控制、可超高速旋转基板。规格:加热方式:高频感应加热方式、基座加热方式及碳气体导入方式输出:50kW、2区加...
主权项:1.一种用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平上顶式旋转装置,其特征在于,包括:旋转组件,所述旋转组件设置有一大支撑旋转轴,所述大支撑旋转轴底部设置有一突出轴,所述大支撑旋转轴通过所述突出轴穿设在一炉底,所述突出轴穿过所述炉底固定设置在一炉外承力装置内;承载组件,所述承载组件设置有一大承力板和四...
本实用新型提供了一种用于制备石墨托盘CVDSiC涂层的水平悬挂式旋转装置,包括:旋转组件设置有一大支撑旋转轴,大支撑旋转轴底部设置有一突出轴,大支撑旋转轴通过突出轴穿设在一炉底,突出轴穿过炉底固定设置在一炉外承力装置内;承载组件设置有一大承重板和四根支架,大承重板固定设置在大支撑旋转轴的上端,支架竖直设置...
本实用新型的上述实施例所述的用于制备石墨托盘cvd-sic涂层的水平上顶式旋转装置,通过设置有所述旋转组件能够带动整个装置旋转,位于所述旋转组件上方的所述承载组件能够用于放置所述石墨托盘;所述旋转组件能够与所述旋转组件共同匀速旋转,设置在所述承载组件上的所述石墨托盘也能够上匀速旋转,从而保证了sic涂层制备的均匀...
真空装置:配备干泵和涡轮分子泵,确保实验环境的高纯净度。🌐无论您是科研人员还是工程师,这款设备都是您实验和研发的理想选择。0 0 发表评论 发表 作者最近动态 偷电照明夜未眠ZX 2025-01-04 为什么法斗是城市养狗的首选?🐶在城市里...全文 偷电照明夜未眠ZX 2025-01-04 塔斯马尼亚岛野生动物探险指南塔...
7.所述的cvd方法制备sic的尾气处理装置,低温冷凝系统设有冷凝箱、冷凝箱尾气进入管、冷凝箱尾气排放管,冷凝箱的冷凝箱尾气进入管与反应管的反应管尾气出口之间通过塑料软管连接,连接软管的一端与冷凝箱尾气排放管连接,连接软管的另一端悬挂在二次过滤系统中的三通接头处。
CVD系统,尾气处理装置 主要有干法吸附式和燃烧式两种。其中干法吸附式 装置采用特殊的化学材料对尾气中残余的硅烷、硅 团簇以及短链烃进行吸附,氢气直接高空外排。尾 气从吸附罐的底部进入,穿过针对不同气体的化学 药剂吸附层,最终排放。吸附罐分为工作区以及应 急处理区,工作区和应急处理区的装药类型相同, 装药主...
产综研开发出可降低SiC功率元件价格的高速CVD装置
ThermVac交付的TaC CVD设备可在最高温度2400度下,使TaCl5粉末蒸气与CH4气体发生反应,并将合成的TaC成分以薄膜形式沉积到石墨产品表面。该设备由真空炉主机、供电装置、真空排气装置、工艺气体控制装置、尾气处理湿式洗涤集尘装置(Scrubber)和动力供给装置组成。