金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，浙江正金石半导体设备有限公司申请一项名为“用于cds/cms/sds/cmp光刻刻蚀的化学液浓度监控设备”的专利，公开号CN 119050015 A，申请日期为2024年9月。专利摘要显示，本发明公开了用于cds/cms/sds/cmp光刻刻蚀的化学液浓度监控设备，包括循环管道、泵、控制器和化学...
📦 DMS单/双CMP模组:为各类实验室提供定制化研磨模组设计,采用与整机一致的通用设计,具有等同的CMP工艺结果。搭配众硅的CMP设备使用,能满足长时间高效稳健运作的需求。💧 SDS&SDD研磨液供液系统:为CMP系列产品提供了稳定的研磨液供液系统,搭配众硅的CMP设备使用,能满足长时间高效稳健运作的需求。杭州众硅科技公司以...
众硅科技DMS®单/双CMP模组为各类实验室提供定制化研磨模组设计，采用与整机一致的通用设计，达成等同的工艺结果且设备具有成本优势。除此之外，众硅科技的SDS&SDD设备为CMP系列产品提供了稳定的研磨液供液系统，这使得众硅科技的CMP化学机械平坦化设备和解决方案更能满足长时间高效稳健运作的需求，进一步引领市场。目前，...
众硅科技DMS单/双CMP模组为各类实验室提供定制化研磨模组设计,采用与整机一致的通用设计,达成等同的工艺结果且设备具有成本优势。除此之外,众硅科技的SDS&SDD设备为CMP系列产品提供了稳定的研磨液供液系统,这使得众硅科技的CMP化学机械平坦化设备和解决方案更能满足长时间高效稳健运作的需求,进一步引领市场。 目前,众硅科...
华海清科是高端半导体设备供应商，主要产品包括CMP（化学机械抛光）设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务等。今年4月底，华海清科在接受市场机构调研时表示，随着该公司产品逐渐多元化，当期销售机台数量不仅包含CMP（化学机械抛光）设备，同时还有CDS/SDS 等供液系统。供液系统逐步获得客户的认可，...
公司2023年度业绩预计较上年同期增长的主要原因系公司CMP产品市场占有率和销售规模持续提高；同时，晶圆再生、CDS和SDS等新业务开发初显成效，提升了公司营收和盈利规模。业务扩展进展顺利，清洗、减薄等领域业务雏形开始显现：公司高度重视CMP产品的技术和性能升级，推出了满足更多材质工艺和更先进制程要求的新功能、新模块...
用于湿法工艺设备中研磨液、清洗液等化学品供应的 SDS/CDS 供液系统设备已获得批量采购, 已在逻辑,先进封装,MEMS 等国内集成电路客户实现应用。报告期内,公司完成新品CDS开发,实现更小尺寸和更优性能,满足客户的不同需求。 (6)膜厚测量设备 应用于 Cu、Al、W、Co 等金属制程的薄膜厚度测量设备已发往多家客户验...
1、公司平台化拓展,减薄设备、湿法设备和膜厚检测设备等均有布局,其中12英寸超精密晶圆减薄机Versatile-GP300是业内首次实现12英寸晶圆超精密磨削和CMP全局平坦化的有机整合集成设备,已获得小批量订单,23年已有多台设备发往不同客户端进行验证。 2、CMP产品市场占有率和销售规模持续提高;晶圆再生、CDS和SDS等新业务...
华海清科是我国半导体前道CMP设备龙头企业,同时基于主业,拓展了减薄、耗材、晶圆再生等业务。另外,离子注入设备布局也在持续发力中。2023年营收同比增长超50%,利润增长超40%!除传统CMP设备业务外,晶圆再生、CDS 和 SDS 等新业务开发初显成效,也提升了公司营收和盈利规模。我们分开来看看:第一、CMP设备仍是华海清科...
供液系统:用于湿法工艺设备中研磨液、清洗液等化学品供应的 SDS/CDS供液系统设备已获得批量采购, 已在逻辑、先进封装、MEMS 等国内集成电路客户实现应用。2024年,公司完成新品 CDS 开发, 实现更小尺寸和更优性能。 膜厚测量设备:应用于 Cu、Al、W、Co 等金属制程的薄膜厚度测量设备已发往多家客户验证,测量精度...