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上海岩征实验仪器有限公司供应CMP抛光液工艺装置供应产品,CMP抛光液工艺装置是用于生产和优化CMP抛光液的关键设备。主要构成组件:混合容器:用于容纳和初步混合各种原料。搅拌系统:通常由高性能的搅拌桨和驱动电机组成,确保原料充分均匀混合。加热与冷却系统:精准控制反
CMP 化学机械抛光液生产装置是用于大规模制造 CMP 化学机械抛光液的重要设施。 主要组成部分: 原料储存罐:用于存放各种原材料,如磨料、化学添加剂、溶剂等,并具备良好的密封性和防腐蚀性能。 精确计量系统:包括高精度的计量泵和传感器,确保每种原料的添加量准确无误。
主营商品:内置泵、led设备、测量套件、光源设备、卤素光源、防尘口罩、空气监测、数字粉末计、数字粉碎计、普通噪声计、内置抽吸泵、粒子计数器、粉尘监测器、粉尘捕集面罩、浓度分析设备、排气阀气装置、清晰照明设备、累计流量测定功、过滤器试验装置 进入店铺 全部商品 13:58 e** 联系了该商品的商家 11:27 q...
CMP技术作为半导体制造的核心工艺,对于晶圆表面的平整度和光洁度要求非常高。其后续的清洗和吹干环节显得格外的重要。文章将着重介绍CMP后精准清洗吹干装置的设计与应用。通过该装置,可以抽湿除浊,彻底解决残留问题,从而提高芯片的制造质量。 正文: 一、 CMP技术的清洗问题 ...
研究报告 1 2025年中国CMP工艺抛光垫修整装置行业市场前景预测及投资价值评估分析报告一行业概述1.1.CMP工艺抛光垫修整装置行业定义及分类1 CMP工艺抛光垫修整装置是半导体制造过程中不可或缺的关键设备,主要用于对硅片晶圆等半导体基
0.00 元 市场价 0.00 元 产品编号 数量 - + 库存: 0 所属分类 返回列表 扫二维码用手机看 粤ICP备18151755号 提醒x 您的浏览器版本过低或该浏览器不支持,可能导致网站不能正常运行 为了您能正常使用网站功能,建议使用一下浏览器: Google Chrome(推荐)、火狐浏览器(Firefox)、IE10、IE11、360安全浏览器(极速...
对碳化硅材料化学机械抛光,获得表面粗糙度Ra0.3nm-抛光压力:0.8-15kg,抛光头转速:0-130rpm,抛光盘转速0-130rpm