CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等,其中()是最重要的设备。 A、后CMP清洗设备 B、抛光机 C、抛光终点检测及工艺控制设备 D、废物处理和检测设备 点击查看答案 第2题 化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。 A、抛光机 B、抛光液 ...